微波等离子体反应系统

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微波等离子体反应系统相关的厂商

  • 400-860-5168转1092
    南京汇研微波系统工程有限公司位于南京大学鼓楼高校国家大学高科技园区,专业从事实验室微波仪器、微波波导器件、微波泄漏检测仪、微波能应用设备及仪器的研究、开发、制造、销售、技术咨询和技术服务。 公司的主要产品主要分为2450MHz和915MHz两大类,包括单模和多模各种微波实验仪器,包括微波合成萃取仪,微波消解仪,微波超声波组合反应仪,微波超声波紫外光组合反应仪,微波单模反应仪,微波烧结设备,微波污水处理设备,微波等离子设备,各种大功率的微波实验炉,微波真空实验炉,定制各种专用微波反应系统,各种微波功率源以及微波环行器、水负载、三螺钉调配器、定向耦合器、短路活塞等波导元器件等。 我们恪守“质量第一,用户至上”的经营理念,竭诚为广大新老客户提供热忱、专业地服务,我们追求的目标是对技术的不断完善和突破,我们服务的宗旨是给客户最好的产品、最优的服务。   公司科研力量雄厚,主要技术人员均在实验室微波仪器、工业微波设备应用领域工作多年,有丰富的理论及实践经验。公司的目标是建立起一个以技术为先导,以品质、服务、创新为基础的高科技企业,不断进行技术创新,提供给用户高质量的产品,吸取国际先进的经营管理手段,为用户提供优质的服务。最终成为国际一流的微波设备制造企业。 公司能为各类用户度身定制各种微波能应用设备和实验室微波仪器。 公司地址:南京大学鼓楼高校国家大学高科技园区 电话:025-86563632,86602887 手机:13601583987,13072542644 传真:025-86563632 网址:www.hymw.com E-mail:huiyanmw@163.com
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  • OPS Plasma专注于等离子表面处理,集设备开发与设备制造、工艺开发与方案解决为一体,为各行业提供高效、节能、环保的等离子表面处理方案,包括等离子清洗、等离子活化、等离子改性、等离子接枝与聚合、等离子刻蚀、等离子沉积等。 OPS Plasma的创始人在德Fraunhofer Institute期间积累了丰富的设计开发经验,研发团队拥有10年以上的等离子系统设计经验、5年以上的等离子设备制造经验,是国内最大的等离子应用技术方案解决专家,不仅能为客户提供优质的等离子处理设备,还能为客户提供整套的解决方案和工艺指导。 OPS Plasma的制造团队多年从事等离子设备制造,成功开发出多款设备。设备采用具有独立知识产权的电极系统和进气系统,保证电场和气场的均匀分布,并完美地解决了真空动密封、真空冷却等一系列问题。 OPS Plasma的等离子设备广泛地应用在光学电子、太阳能、半导体、生物医疗、纳米材料、及通用工业领域,销往各大知名院校、科研机构和企业。在全国范围内超过100台实验设备和工业设备的良好运行,充分证明了OPS Plasma等离子系统的优越品质。 OPS Plasma致力于用国际的品质、国内的价格和优质的服务为全球各行业客户提供等离子处理设备和解决方案,成为全球行业领先的等离子应用技术方案解决专家。
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  • 中国博友纳米集团有限公司成立于2010年, 是一家集研发,设计,生产,销售及提供全面的售后服务为一体的高新技术环保纳米等离子喷涂设备、材料、技术公司。公司总部在湖南省,在北京顺义、江苏常州、浙江东阳、福建泉州、广东东莞建有分公司,印度和越南的分公司在2019年正式开张,公司已在中国贵州省黔东南州筹建10万平米以上研发生产和营销中心售后服务总基地及后续准备在贵州上市,海外其它国家的销售及技术服务分公司也在筹划中。我们的市场覆盖全球范围内的工艺品,塑料、塑胶、五金、玻璃、木材、陶瓷、家具,灯饰,汽车,装饰,电子电器等等各行各业领域任何需要喷涂效果的产品, 投入小,回报大,高新的技术和全面的技术支持和售后服务让我们的市场和业绩一直超高速的在增长。
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微波等离子体反应系统相关的仪器

  • 绿色、环保、低成本、空气运行的元素分析技术 安捷伦4100 MP-AES拥有更安全、更经济、更高效的运行速度。更高的灵敏度、更低的检测限(亚ppb级)、全面超越火焰原子吸收光谱仪的分析效率。最具创新的是:安捷伦4100 MP-AES 采用了空气运行,无需再使用易燃及昂贵的气体,极大地降低了运行成本,提升了实验室的安全保障。产品特点最低的运行成本:安捷伦 4100 MP-AES 无需使用易燃、昂贵的气体,可实现无人值守操作,大大降低了运行成本高性能:电磁耦合微波等离子体光源相比原子吸收的火焰原子化器, 提供了更加优异的集体耐受力和适应力,以及更加出色的检测限简洁实用:专业的应用软件程序设计,即插即用的硬件设置,确保任何用户都能够快速安装操作,无需复杂的方法开发、校准或培训更高的实验室安全:除了无需使用易燃的氧化性气体外,4100 MP-AES使实验室无需引入多种复杂气体,无需人工搬运气体钢瓶可靠、耐用: 4100 MP-AES 运行稳定,适应性强。适用于危险气体采购价格昂贵、运输不便的边远地区,是采矿、食品及农业、化工、石化和制造等行业的理想选择
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  • 微波等离子体火炬 400-860-5168转1976
    产品应用等离子体火炬(亦称等离子体发生器或等离子体加热系统)就是依据这一原理研制的专门设备。等离子体火炬通过电弧来产生高温气体,可在氧化、还原或惰性环境下工作,可以为气化、裂解、反应、熔融和冶炼等各种功能的工业炉提供热源。微波等离子体炬就是以微波为激发能量的开放式等离子体技术。产品特点1、微波激发开放式等离子体火炬产品平台,用于等离子状态下,气固液态材料的反应2、支持多种气氛条件的等离子体,3、支持混气和送样4、支持等离子体强度调节5、智能化控制系统,工艺可控技术参数(一)、微波系统1.微波功率:额定功率1000W / 2450MHz,无级非脉冲式连续微波功率输出2.微波等离子体激发腔设计:①中央聚焦强电磁场密度微波腔②内置微波调配系统(二)、功能系统1.等离子体系统:①开放式石英管等离子体反应系统②等离子体强度和主焰高度可调2.温度控制:①温度范围:1000℃,;②采用红外测温方式(700~1700℃),支持选配光学测温系统;3.气氛控制:①支持多种气氛条件的等离子体,②支持混气和流量控制,支持流动送样③支持选配尾气收集系统(三)、控制系统①采用PLC自动化控制:功率、强度、流量、时间可控②支持选配内腔视频系统,进行动态观察(四)、安全系统1.腔体多重联锁结构,开门断电,保护操作人员2.开口采用λ/4高阻抗微波抗流抑制结构,保证操作人员的健康安全,微波泄漏量:5mW/cm2 (优于国标)(五)、整机说明1.设备供电:220Vac / 50Hz,整机能耗:1500W2.设备供水:水冷系统3.外观尺寸:主体约:1400×1600×700mm(宽×高×深)4.设备重量:80kg5.公司产品通过ISO9001质量认证体系 整机质保一年
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  • 单模微波反应系统 400-860-5168转1092
    仪器介绍:采用单模聚焦微波技术,微波从激励腔,经过专用微波装置隔离保护,通过波导传输,以单一模式进入微波反应腔,在微波反应腔内形成一个高功率密度的稳定微波场,可明显缩短反应时间、显著提高产率和纯度。仪器特点:1.该系统由微波功率源,环行器隔离保护装置,微波检波及驻波调节系统,单模谐振腔,终端调谐波导等波导系统组合而成。全部采用标准波导连接,可根据不同实验的需要自由拆卸和组合自己的反应系统,2.单模谐振腔可根据不同实验要求自由定制和更换,配终端调谐,单模聚焦可调。3.用于单模微波化学反应,单模微波合成反应,大幅提高微波反应的效率,也可用于微波等离子放电,微波UV实验等用途。系统也可用于连接多模谐振腔。技术参数:1.微波功率:0-1000W连续线性可调,采用先进的模糊算法,实时动态改变(稳定)腔体内的功率密度2.微波频率:2450MHz± 50MHz3.输入电源:220V,50HZ4.配单模谐振腔,用于进行单模微波条件下的各种反应5.全中文真彩触摸式人机界面,工业级微电脑作为中心控制处理器。6.全部采用标准波导连接,可根据不同实验的需要自由拆卸和组合自己的反应系统7.配置专用微波隔离装置进行隔离保护,可抗全反射,即使反应物料剂量接近于零,仪器也可正常工作。8.配置波导耦合器、晶体检波器和波导调配器,在线对系统驻波进行观察调配9.单模谐振腔配终端调谐波导,单模聚焦可调10.高精度红外温度传感器实时监测控制反应温度11.测温控温范围0-500℃,精度± 1℃12.磁控管温度保护等多重连锁保护装置13.微波泄漏优于国家安全标准,安全可靠
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微波等离子体反应系统相关的资讯

  • 基于多天线耦合技术的微波等离子体化学气相沉积系统,完美实现大尺寸金刚石制备
    化学气相沉积是使几种气体在高温下发生热化学反应而生成固体的方法,等离子体化学气相沉积是通过能量激励将工作物质激发到等离子体态从而引发化学反应生成固体方法。因为等离子体具有高能量密度、高活性离子浓度、故而可以引发在常规化学反应中不能或难以实现的物理变化和化学变化,且具有沉积温度低、能耗低、无污染等优点,因此等离子体化学气相沉积法得到了广泛的应用。微波等离子体也具有等离子体洁净、杂质浓度低的优点,因而微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)成为制备高质量金刚石的优先方法,也是目前有发展前景的高质量金刚石(单晶及多晶)沉积方法之一。MPCVD设备反应腔示意图金刚石具有优异的力学、电学、光学、热学、声学性能,在众多领域具有广泛的用途。而这些用途的实现在很大程度上依赖于高取向和单晶金刚石以及大面积透明金刚石膜。由于金刚石生长过程中普遍存在缺陷以及难以获取大面积范围内均匀温度场等参数,导致金刚石的取向发生改变,使高取向和单晶金刚石以及大面积透明金刚石膜的获得十分困难。因此,目前金刚石研究面临的大挑战和困难是如何制备优质单晶、多晶金刚石样品。 德国iplas公司基于 CYRANNUS® 多天线耦合技术,解决了传统的单天线等离子技术的局限。CYRANNUS® 技术采用腔外多天线设置,确保等离子团稳定生成于腔内中心位置,减少杂质来源,提高晶体纯度(制备的金刚石单晶纯度可达VVS别以上)。MPCVD系统可合成饰钻石 同时稳定的微波发生器也易于控制,可以在10mbar到室压范围内激发高稳定度的等离子团,大限度的减少了因气流、气压、气体成分、电压等因素波动引起的等离子体状态的变化,从而确保单晶生长的持续性,为合成大尺寸单晶金刚石及薄膜提供了有力保证。 MPCVD系统可合成优质大尺寸金刚石薄膜 MPCVD同样适用于平面基体,或曲面颗粒的其它硬质材料如Al2O3,c-BN的薄膜沉积和晶体合成。德国iplas公司凭借几十年在等离子技术领域的积累,可以为用户提供高度定制的设备,满足用户不同的应用需要。相关产品链接 微波等离子化学气相沉积系统 http://www.instrument.com.cn/netshow/SH100980/C184528.htm
  • 国内首台中试型超声波微波协同强化反应系统与可编程微波催化合成萃取系统通过攀钢验收
    南京先欧公司仪器制造有限公司自主研发生产的国内首台中试型超声波微波协同强化反应系统与可编程微波催化合成萃取系统,近日通过了攀钢研究院各位领导和专家的验收!攀枝花钢铁研究院兼有攀钢钢铁研究院(企业科研院所)和攀枝花钢铁研究院(冶金工业部直属科研院所)双重身份,是以钢铁钒钛技术开发为主的冶金研究机构。
  • 四川大学段忆翔课题组:激光烧蚀微波等离子体系统(LA-MPT-OES)实现大米中镉、汞、铅、铬的高灵敏度检测
    大米是全球75%人口的主要食物,其中重金属如镉(Cd)、汞(Hg)、铅(Pb)和铬(Cr)的快速、高灵敏检测对于食品安全至关重要。常用的元素检测技术常常具有诸如须要复杂的样品预处理及消解过程、仪器运行成本高或检出灵敏度低等不足,开发一种能够直接检测固体样品、高灵敏度、经济性好的分析系统,对于大米中重金属的快速、灵敏检测具有重大意义。四川大学分析仪器研究中心段忆翔教授团队长期开展在线、现场分析方法和分析仪器的研发,围绕微波等离子体炬关键技术性难题开展了深入研究。本研究构建了激光烧蚀微波等离子体炬光谱发射光谱(LA-MPT-OES)分析系统,并对不同元素在等离子体内的激发行为从其在等离子体中的激发高度和宽度开展了二维表征,明确了各元素的最佳分析区域,建立了针对大米中镉(Cd)、汞(Hg)、铅(Pb)和铬(Cr)快速、高灵敏的检测方法。该系统实现了固体样品的直接采样,避免了复杂的样品预处理过程。通过对不同元素在等离子体火焰内激发行为的研究,明确了元素之间激发过程的差异性及各元素的最佳检测区域。与其他技术相比,LA-MPT-OES具有相当甚至更低的检测限,达亚微克/克级别。同时,作者采用实际样品对该方法的实用性进行了考察,其检测结果与标准值之间无显著性差异,表明LA-MPT-OES在实际样品分析中具有良好的准确性和稳定性。需要指出的是,该系统结构简单,等离子体炬功率仅为200 W,所用气体流量不超过1 L/min,在现场、快速分析领域具有极大的应用潜力。综上所述,LA-MPT-OES具有直接固体采样、高灵敏度、低气体消耗和低功率消耗的优势,可适用于大米样品的直接、快速、高灵敏度检测,在食品安全领域具有广阔的应用前景。图1.各元素在不同位置的光谱及采样时等离子体羽流的表征(a) Cd、Cr、Pb和Hg在不同位置的光谱。(b) 等离子体羽流的照片。(c) 采样时等离子体羽流的元素成像及各元素在二维平面上等离子体羽流中的信号强度。图源:Food Chemistry, https://doi.org/10.1016/j.foodchem.2024.139850 论文链接:https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0308814624015000

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微波等离子体反应系统相关的资料

微波等离子体反应系统相关的试剂

微波等离子体反应系统相关的论坛

  • 【资料】-微波等离子体及其应用

    【资料】-微波等离子体及其应用

    关键词: 化学[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]沉积 微波等离子体CVD法 微波等离子体热处理仪 金刚石薄膜 微波烧结 新材料 纳米催化剂 一、微波等离子体简介等离子体的研究是探索并揭示物质“第四态” ——等离子体状态下的性质特点和运行规律的一门学科。它是包含足够多的正负电荷数目近于相等的带电粒子的非凝聚系统。等离子体的研究主要分为高温等离子体和低温等离子体。高温等离子体中的粒子温度高达上千万以至上亿度,是为了使粒子有足够的能量相碰撞,达到核聚变反应。低温等离子体中的粒子温度也达上千乃至数万度,可使分子 (原子)离解、电离、化合等。可见低温等离子体温度并不低,所谓低温,仅是相对高温等离子体的高温而言。高温等离子体主要应用于能源领域的可控核聚变,低温等离子体则是应用于科学技术和工业的许多领域。高温等离子体的研究已有半个世纪的历程,现正接近聚变点火的目标;而低温等离子体的研究与应用,只是在近年来才显示出强大的生命力,并正处于蓬勃的发展时期。微波等离子体化学[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]沉积技术原理是利用低温等离子体(非平衡等离子体)作能量源,工件置于低气压下辉光放电的阴极上,利用辉光放电(或另加发热体)使工件升温到预定的温度,然后通入适量的反应气体,气体经一系列化学反应和等离子体反应,在工件表面形成固态薄膜。它包括了化学[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]沉积的一般技术,又有辉光放电的强化作用。 金刚石膜具有极其优异的物理和化学性质,如高硬度、低磨擦系数、高弹性模量、高热导、高绝缘、宽能隙和载流子的高迁移率以及这些优异性质的组合和良好的化学稳定性等,因此金刚石薄膜在各个工业领域有极其广泛的应用前景。 1. 在药瓶内镀上金刚石薄膜,可以避免药品在瓶内起反应,延长药品的保 全寿命; 2. 可作为计算机硬盘的保护层。目前的计算机硬盘,磁头在不用时要移到硬盘旁边的位置上,如果硬盘包有金刚石薄膜,则磁头可以始终放在硬盘上,这样就提高了效率; 3. 在切割工具上镀上金刚石薄膜,可以使工具在很长时间内保持锋利; 4. 用于制造带有极薄金刚石谐振器的扬声器; 5. 涂于计算机集成电路块,能抗辐射损坏,而一般硅集成块却易受辐射损坏。它能将工作时产生的热迅速散发掉,使集成块能排列得更紧凑些; 6. 用于分析X射线光谱的仪器,透过X射线的性能较别的材料好。 金刚石膜沉积必须要有两个条件: 1. 含碳气源的活化; 2. 在沉积气氛中存在足够数量的原子氢。 由于粒子间的碰撞,产生剧烈的气体电离,使反应气体受到活化。同时发生阴极溅射效应,为沉积薄膜提供了清洁的活性高的表面。因而整个沉积过程与仅有热激活的过程有显著不同。这两方面的作用,在提高涂层结合力,降低沉积温度,加快反应速度诸方面都创造了有利条件。 微波等离子体金刚石膜系统应由微波功率源,大功率波导元件、微波应用器及传感与控制四部分组成。应用器是针对应用试验的类型而设计,其微波功率密度按需要而设定,并按试验需要兼容各种功能,具有较强的专用性质。微波功率源、大功率波导元件及传感和控制三种类型的部件,是通用的部件,可按需要而选定。反应器必须可以抽成真空;且可置于高压。因此微波传输必须和反应器隔离开来。反应器中可以通入其他气体。下面是一个反应器图。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2006/05/200605221201_18795_1613333_3.jpg[/img]半导体生产工艺中已经采用微波等离子体技术,进行刻蚀、溅射、[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]沉积、氧化硅片;还可用于金属、合金、非金属的表面处理;用于等离子体光谱分析,可检测十几种元素。 二、微波等离子体源 目前国内微波离子体源的研究工作,大部分在2450MHZ这个频段上进行,部分还可能采用915MHZ频段。这两个频段均采用连续波磁控管,并做成连续波功率微波源。但实际情况均具有较大的波纹因素,说得确切一些是三相全波整流或单相全波整流的波形被磁控管锐化了波纹状态。家用微波炉的电路结构实际上是可控的单相半波倍压整流电路,其波纹因素更大。 这种工作状态受电网波动的影响,平均功率不断变化,具有很大的不稳定性,造成功率密度的不确定。在微波等离子体金刚石膜制作系统要求很严格的情况下,会造成实验结果重复性不满意。因此需要稳定且纹波系数小的微波源是系统成功关键。 另外,近来微波等离子体的研究首先发现这些问题,电源的不稳定性会造成等离子体参数的变化。但用毫秒级的脉冲调制连续波磁控管,在许多实验中取得了良好的实验效果。理论分析调制通断时间的选定可以获得改善效果。 1. 物料介电损耗的正温度系数锐化了不均匀的加热效果,造成局部点的热失控现象。必要的周期停顿,利用热平衡的过程,可以缓解这些不均匀因素,抑制热失控现象的建立。 2. 避免了微波辅助催化反应过程中若干不需要副反应的累积。周期性的停顿可以避免这些副反应累积增强,停顿就是副反应的衰落,再从新开始,这样就避免了副反应的过度增长。 三、微波等离子体的应用 微波等离子体的应用技术主要用来制造特种性能优良的新材料、研制新的化学物质,加工、改造和精制材料及其表面,具有极其广泛的工业应用——从薄膜沉积、等离子体聚合、微电路制造到焊接、工具硬化、超微粉的合成、等离子体喷涂、等离子体冶金、等离子体化工、微波源等。等离子体技术已开辟的和潜在的应用领域包括:半导体集成电路及其他微电子设备的制造;工具、模具及工程金属的硬化;药品的生物相溶性,包装材料的制备;表面上防蚀及其他薄层的沉积;特殊陶瓷(包括超导材料);新的化学物质及材料的制造;金属的提炼;聚合物薄膜的印刷和制备;有害废物的处理;焊接;磁记录材料和光学波导材料;精细加工;照明及显示;电子电路及等离子体二极管开关;等离子体化工(氢等离子体裂解煤制乙炔、等离子体煤气化、等离子体裂解重烃、等离子体制炭黑、等离子体制电石等)。 微波等离子体化学[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]沉积制备纳米催化剂的研究等。 微波等离子体的应用前景广阔。来源于汇研微波

  • 石英管式微波等离子体发生装置制备金刚石薄膜

    富阳精密仪器厂电话:0571-63253615 传真:0571-63259015地址:浙江富阳新登南四葛溪南路26号 邮编:311404联系人:温先生电话:13968165189Email:manbbb@sina.com网址:www.jingmiyiqi.net 石英管式微波等离子体装置是我厂专门为大学和研究机构设计的小型化产品,可用于薄膜材料的制备和等离子体物理等方面的研究工作,并且特别适宜于大中专学校的材料、化学工程与工艺、物理等专业的学生实验。该装置利用微波能激励稀薄气体放电在石英管中产生稳态等离子体,通过通入不同的工作气体,可进行功能薄膜材料的制备、化学合成、表面刻蚀、等离子体诊断等多方面的实验。1 主要配置 1. 2.45GHz,0~500W微波功率连续可调,可满足不同实验的要求; 2. ф50mm的石英管真空室,带有一个观察窗和一个诊断窗口,保证各种实验方便进行; 3. 石英管采用水冷却,可保证装置在高功率条件下安全运行; 4. 配置了3路气体管路,气体流量控制方便; 真空测量系统及控制阀门可保证真空室所需的真空环境。2 典型实验 1. 等离子体化学[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]沉积 A(气)+B(气)→ C(固)+D(气) 反应气体A、B被激发为等离子体状态, 其活性基团发生反应生成所需要的固态物沉积在基片上,可广泛用于薄膜或纳米材料的合成。如金刚石薄膜氮化碳薄膜、碳纳米材料等。 2. 等离子体表面刻蚀 A(气)+B(固)→ C(气) 反应气体A 被激发为等离子体状态与固体B表面原子发生反应生成气态物C,可用于集成电路的刻蚀实验。 3. 等离子体催化反应 利用等离子体中丰富的活性成分,如紫外和可见光子、电子、离子、自由基;高反应性的中性成分,如活性原子,受激原子态,从而引发在常规化学反应中不能或很难实现的化学反应。 4. 等离子体表面改性 A(气)+B(固)→ C(固) 反应气体A 被激发为等离子体状态与固体B表面发生反应生成新的化合物从而达到改变B物质表面性质的目的。可广泛用于高分子材料、金属材料及生物医用材料的表面改性实验。[em28] [em28] [em28] [em28]

  • 【资料】—与微波等离子体相关的历史事件

    [b]与[/b][color=red]微波等离子体[/color][b]相关的历史事件[/b] 2001年周健等开展了微波等离子体化学[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]沉积金刚石膜研究阁。 2000年,陈栋梁、李庆等人进行了甲烷和氮气在低压微波等离子体下的转化研究,其生成的主要产物是HCN和乙炔,以及少量的含氰化合物,更高级的烃类以及氨或胺类没有检测到[1996年,海光与吉林大学金钦汉教授联合申报“微波等离子体炬发射光谱仪”获得成功。从1983年以来,加茂睦和和瀚高信雄等人’-用微波等离子体 CVD法在更温和的条件下合成了几毫米厚的微晶金刚石薄膜。 1983年日本的加茂睦和等人采用氢气和甲烷气体,用微波等离子体在硅片和石英片上沉积出金刚石膜”留校一直参加微波及电子线路方面的教学和科研工作,1982年以后开始从事微波等离子体方面的研究和有关设备的研制工作,作为主要完成人的“微波等离子体源及沉积设备”于1988年获电子工业部科技进步一等奖,微波等离子体CVD设备”于1992年获国家科技进步三等奖,1992年开始参与太阳能利用方面的工作。从1979年起,科研方向转变到更广泛的领域,提出“广义微波”的概念,即波长与器件尺寸可以相比拟或略小于器件尺寸的波动现象,其理论基础都是微波理论的发展,从而确定了微波声学、导波光学、静磁波及微波等离子体微细加工等方面属于“广义微波”研究课题。1976年,Beenakker研制成功了一种可以得到常压氦微波等离子体的微波谐振腔,情况才开始有所改善。1975年Mosian等发明了一种表面波器件 1976年Beenakker提出了Tmoio谐振腔并获得了常压氦微波等离子体。因此有人于1965年提出了[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]和微波等离子体发射光谱联用的方法(以下简称色-光法)经过几年的发展于1973年已基本上仪器化。 自1965年Mccoroark提出微波等离子体应用与检测器达到阻抗匹配。金刚石具有高热导率、优异的耐磨性和低的摩擦因数、介电性好等优异的性能’自从1962年采用化学[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]沉积法(CVD)合成金刚石至今,已发展了许许多多合成金刚石膜的方法,如直流电弧等离子体喷射法、微波等离子体法。1960年代以后,微波等离子体也用于合成化学。[color=blue]来源:中国知网[/color]

微波等离子体反应系统相关的耗材

  • 微波等离子体清洗器配件
    微波等离子体清洗器配件是目前最为先进的等离子体清洗机,采用微波能量生产等离子体,在氧气或氩气以1-5torr的压力流经样品室时,微波能会有效地激发等离子体。等离子体清洗机配件产生的等离子体是电中性的高度电离的气体,这种等离子流经污染表面与之发生反应,污染表面自好清洗而不影响材料的大部分特性。与其他等离子产生方法不同,这款微波等离子清洗器使用2.45GHz的微波能,具有可调的的功率占空比和模拟功率调节功能。功率可调范围高达10-550瓦。使用该产品,可以获得更高的气压,更高的功率和更高的温度,当然,您将获得以前从未实现的更高的反应速度。微波等离子体清洗器配件特点微波等离子清洗技术是一种革命性的清洗方法。微波等离子清洗器本身价格不高,安全而易于使用,而且还节省空间。这种等离子体清洗机,微波清洗器不产生垃圾,不排放有毒有害的溶解物或气体,不需要独立的操作空间。是一种远远比化学清洗方法安全经济环保的清洗方式。我们提供三种规格的微波等离子体清洗器,这三款等离子体清洗机,微波清洗器的区别主要在于耐温玻璃样品室的容积大小。第一种等离子体清洗机,微波清洗器的样品室是直径4.1’’x6’’长,第二种等离子体清洗器是8’’x6’’x2’’,第三种是9’’x7’’x3’’。具有长方形样品室的清洗器都配有水冷系统可以控制温度,这样就可以清洗更多种类的器具而不必单位热损伤。微波等离子体清洗器配件配置:1.水循环浴;2.双气真空流动控制器:可与微波等离子清洗器联合使用的独立的器件,它的作用是按不同比例混合两种气体。该控制器包括为真空泵和水循环浴提供的功率输出,两个流量(0-5SCFM)计,两个压力计(0-60帕),一个真空压力计(0-30’’Hg)和一个开关;3.离子阱:该离子阱用于保护易损伤材料,如:激光二极管发光面,光刻胶等。该离子阱可以中和带电离子,从而只允许中性辐射物参与清洗使得易伤材料免于清洗伤害。
  • 微波等离子体源
    微波等离子体源是具有着高度灵活性微波等离子体发生器,可有效应用在各种精密复杂的科研实验中。微波等离子体源创造性地使用分子气体混合物补充的纯氩气,氦气,确保了将化学工艺与具体应用的要求相匹配。微波等离子体源特点对于表面净化、超细清洗和表面活化以及实时样品制备的形态分析方法这些多样化应用,广泛的操作范围内的气体流量和微波功率,以及固有的高等离子体温度是必不可少的先决条件。具有上述性能,成为了工业和研究领域里生产和分析应用的强大工具。等离子体作为一种高新技术,广泛用于科学研究和工业应用,是表面处理中不可或缺的工具。等离子技术运用广泛,主要用于那些质量,生产力,环境的可持续性,精密度和灵活性很重要的应用。微波等离子体源MiniMIP特征 紧凑和移动型 灵活性高 微波等离子体源应用广泛 激活 精洗 净化 形态分析(如有机汞,铅,锡化合物) 化学反应器? 处理 技术和生物材料 复杂的几何形状 很难接近的位置 精确和逐点操作 惰性和分子气体提供能源 多功能加工一体化微波等离子体源规格 用于表面处理的紧凑型常压等离子体源装置 手持装置尺寸 80x 65X 50mm(1.50米电缆接头) 手持装置重量 0.5kg 基本单元尺寸 110x 230x 375mm (高x宽x深) 基本单元重量 6.5公斤 电源 110-230VAC, 50/60 Hz 功耗<200W 在230 V, 50 Hz 运输和储存条件 温度 - 40°C - 70°C 相对湿度 10% - 100% 工作条件 温度15°C - 40°C 相对湿度 15% - 75% 气压 800 hPa -1060 hPa资源工艺气体氩* *根据要求,提供其他气体和混合物微波频率 2.45GHz正向功率 10 W至60 W(可选)气体流量 0.6- 6升/分钟等离子量 约10mm3电子密度 高达2 x1021m-3气体温度 高达1700°C*取决于工艺气体和功率 交付内容 等离子体源装置 微波发生器 微波连接器电缆线
  • 等离子体主动热探头
    等离子体主动热探头是耐高温的等离子探头,用于高温等离子体过程中流入到目标表面的能量,也可作为离子流探头使用。由于等离子体主动热探头的灵敏度非常高,特别适合用于工业生产过程或研究中的有效质量控制。有一个特殊的版本,该版本有一个更多可选的可调参数,可以用来解决等离子体工艺的研发。等离子体主动热探头特点在生产高品质涂层或研究材料属性过程中,对等离子体工艺的表征,控制和监测是至关重要的。最重要的一个参数是通到基底的实际能量流入和总能量流入—主动热探头是测量这个决定性的量数的唯一工具。增殖的粒子影响基底的表面工艺和反应。这种能量与其他如热辐射能或化学能合成总流入能量。主动热探头连续定向测量流入的能量,保持层和表面性质很好的相关性。等离子体主动热探头产品概述适用于真空 耐温高达450°C 能量流入可多达(2±0,001)W/cm2 可衡量 可变长度和几何图形 包括系统控制和评估的软件包 提供安装服务和流程优化咨询
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