非触式微区形貌测试系统

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非触式微区形貌测试系统相关的厂商

  • 深圳市泰斯特尔系统科技有限公司成立于2012年,总部位于广东省深圳市龙岗区,在山东、江苏均设有办事处,长期以来,公司一直专注于质量可靠性及失效分析仪器、设备的研发、组装及销售,产品广泛应用于通讯设备、船舶汽车、计算机、航空航天、半导体器件,印制电路板等行业。 公司通过了ISO9001:2015体系认证,并拥有自主品牌“TIAST”,自主研发了绝缘电阻测试系统、导通电阻测试系统、交/直流PDU电源系统、电阻电容自动化测试系统…… 同时代理以下产品:如华电(烟台)功率循环测试系统、法国Insidix热变形形貌测量仪、美国OKOS超声波扫描显微镜、GLASER激光开封机、美国ANALYSIS TECH热阻测试仪、威太HCT、Vision显微镜、美国RKD酸开封机...... 公司以国家级研究院所、知名高校的教授学者为依托,以技术服力为引领,帮助客户选好、用好仪器设备为己任,先后服务于国内众多知名客户:工信部五所、中国 科学院深圳先进技术研究院、西南交大、合肥工大、华北 电力大学、HW、中兴、中车、浪潮、美的、格力、飞利浦、华测、深南电路、兴森快捷、安森美、安世、乐依文......
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  • 400-860-5168转2125
    KLA是全球半导体在线检测设备供应商。KLA于2018年3月从安捷伦Keysight Technologies公司收购了行业的龙头产品——高精度原位微纳米力学测试系统——Nano Indenter G200 和高精度微纳米拉伸系统Nano UTM T150;该力学设备的工厂是全球较大的高精度力学测试系统的供应商,1983年成功制造了第一台商用Nano Indenter;该力学设备的工厂是业内罕有达到40年Nano Measurement Tool生产和研究经验的供应商,成熟的工艺保证了新一代Nano Measurement Tool具有相当好的稳定性和可靠性。该力学设备的工厂拥有广泛的顾客群,在高端力学测试系统领域内拥有很高的市场占有率。 KLA是形貌学测试仪的发明者,经过近30年的技术创新和产品更新换代,一直保持着形貌学测试技术的领导地位。KLA形貌学测试设备的工厂是业内罕有超过30年形貌仪台阶仪生产和研究经验的供应商,成熟的工艺保证了新一代仪器具有好的稳定性和可靠性。该形貌学设备的工厂拥有广泛的顾客群,在高端形貌学测试系统领域内拥有相当高的市场占有率。 1. 产品技术水平 KLA公司拥有很多Nano Measurement Tool的核心技术, 并不断推出更多更新更便于操作的纳米测量产品。纳米拉伸测试系统Nano UTM T150,就是基于KLA(科磊半导体)的技术开发的,适用于对多种材料进行高精度拉伸压缩测试分析,对样品的多种力学性能进行快速、实时分析,包括弹性模量、屈服强度、极限抗拉强度,疲劳特性等等。在许多应用研究领域,Nano UTM T150都表现出其无与伦比的杰出性能,诸如:生命科学、材料科学、聚合物材料、交叉学科纳米尺度的研究等。 KLA公司拥有很多Nano Indenter的核心技术,包括已成为业界标准的连续刚度测量功能、接触刚度成像功能以及快速纳米压入测试技术等等;KLA公司的连续刚度测量功能已经成为薄膜、涂层、多相材料等样品检测常用的测试技术,并已经录入各种力学领域的国际标准和中国国家标准内。KLA拥有快速压痕测试技术,最快可达到 1 压痕点/秒。 KLA公司拥有很多形貌学核心技术, 并不断推出更多更新更便于操作的形貌学测量产品。形貌学测试系统D-系列、P-系列和Zeta-系列都是基于KLA的技术开发的,适用于对多种材料进行高精度形貌学测试分析,对样品的多种形貌学性能进行快速、实时分析,包括台阶高度、表面粗糙度、表面形貌,表面内应力分布等等。在半导体科学、材料科学、聚合物材料、生命科学、交叉学科纳米尺度的研究等诸多领域,D-系列、P-系列和Zeta-系列都表现出杰出的性能特征。 2. 售后服务和技术支持 KLA公司在中国有超过600名员工,在国内配备本土Nano Indenter方面的技术专家,在业内拥有非常好的口碑; KLA公司在中国拥有自己的纳米科学示范实验室,并有专职的应用专家在实验室工作,负责用户的应用技术支持工作; KLA公司还定期举办高级用户培训班,由公司的应用科学家为不同学科的用户进行各个领域应用的深层次培训。
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  • 上海明古嘉科技专注于为微纳米科学领域提供综合性解决方案,为全国各大高校、科研院所及企事业单位提供先进的微纳米科学仪器。与Park公司形成战略合作,Park始终致力于纳米领域的形貌&力学测量和半导体先进制成工艺的计量的新技术新产品的开发。独有的技术是将XY和Z扫描器分离,实现探针与样品间的真正非接触,避免形貌扫描过程中因探针磨损带来的图像失真,快速成像还可以大大提高测试效率,降低实验测试成本。 公司成立以来始终为客户解决各种技术难题,提供最完善的解决方案。
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非触式微区形貌测试系统相关的仪器

  • 随着半导体技术的电子技术工艺的发展,电子产品都往小型化,轻薄化发展。iWatch的一经推出,穿戴电子产品成为了一个新的电子设备应用潮流。随着电子产品的小型化,器件体积越做越小,空间就紧凑起来,这对器件加工尺寸及工艺的容差要求就越来越高。如何管控器件的尺寸及加工工艺对检测手段提出了新的挑战。原来很多制程工序只要管控2D的尺寸,现在需要管控3D的尺寸,而且精度要求都在微米级别,这就需要一个高速、高精度的测量手段来管控生产品质。卓立汉光的3D形貌测试仪应运而生,这款仪器采用非接触式线光谱共焦快速扫描技术,能够高精度还原产品的3D结构,对肉眼不可见的结构缺陷都能准确检测。因为具有较快的扫描速度,微米级别的精度和超强的稳定性,一经推出立马成为精密生产商的新宠。在精密铸件、精密点胶、3D玻璃,半导体缺陷检测和多层光学薄膜厚度检测,就是这款产品的主要应用领域。 卓立汉光长期专注于光谱技术的应用研发,3D形貌测试仪就是常年实践积累的成果(利号:CN207556477U)。该项技术,具有以下优点:技术线性共焦光谱技术点测技术激光扫描3D相机速度1000 line/s1000 point/s1000 line/s多角度拍照快扫描宽度6.5mm/20mm点可选大分辨率1um1um30um100um界面层数多层多层表面表面建模否否否是数据量大大少少 鹰眼系列3D形貌测试仪主要特点有:1、非接触性测量;2、线扫描,高效率;3、微米级精度;4、满足透明面及高对比度表面测试;5、支持二次开发; 鹰眼系列3D形貌测试仪主要应用1、精密部件3D尺寸及段差测试;2、精密点胶胶线截面、胶线宽度、胶线高度测试;3、3D玻璃缺陷检测;4、半导体表面缺陷测试;5、多层薄膜厚度测试; 3D形貌测试仪产品型号及规格HawkEye-1300HawkEye-5000方式共焦光谱共焦光谱精度1um8um重复性±0.3um±4um线扫宽度6.5mm20mmZ轴量程范围1.3mm5mm扫描速度300line/s(Max:1000line/s)300line/s(max:1000line/s)重量5Kg8Kg尺寸460X300X140mm460X300X140mm
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  • SuperViewW中图仪器非接触式光学3D表面形貌测量系统以白光干涉技术为原理,能以3D非接触方式,测量分析样品表面形貌的关键参数和尺寸,可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面,从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。SuperViewW中图仪器非接触式光学3D表面形貌测量系统主要用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量,典型结果包括:表面形貌(粗糙度,平面度,平行度,台阶高度,锥角等等);几何特征(关键孔径尺寸,曲率半径,特征区域的面积和体积,特征图形的位置和数量等等)。产品功能1)样件测量能力:单一扫描模式即可满足从超光滑到粗糙、镜面到全透明或黑色材质等所有类型样件表面的测量;2)单区域自动测量:单片平面样品或批量样品切换测量点位时,可一键实现自动条纹搜索、扫描等功能;3)多区域自动测量:可设置方形或圆形的阵列形式的多区域测量点位,一键实现自动条纹搜索、扫描等功能;4)自动拼接测量;支持方形、圆形、环形和螺旋形式的自动拼接测量功能,配合影像导航功能,可自定义测量区域,支持数千张图像的无缝拼接测量;5)编程测量功能:支持测量和分析同界面操作的软件模块,可预先配置数据处理和分析步骤,结合自动单测量功能,实现一键测量; 6)数据处理功能:提供位置调整、去噪、滤波、提取四大模块的数据处理功能;7)数据分析功能:提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。8)批量分析功能:可根据需求参数定制数据处理和分析模板,针对同类型参数实现一键批量分析;9)数据报表导出:支持word、excel、pdf格式的数据报表导出功能,支持图像、数值结果的导出;10)故障排查功能:配置诊断模块,可保存扫描过程中的干涉条纹图像;11)便捷操作功能:设备配备操纵杆,支持操纵杆进行所有位置轴的操作及速度调节、光源亮度调节、急停等;12)环境噪声评价:具备0.1nm分辨率的环境噪声评价功能,定量检测出仪器受到外界环境干扰的噪声振幅和频率,为设备调试和故障排查提供定量依据;13)气浮隔振功能:采用气浮式隔振底座,可有效隔离地面传导的振动噪声,确保测量数据的高精度;14)光源安全功能:光源设置无人值守下的自动熄灯功能,当检测到鼠标轨迹长时间未变动后会自主降低熄灭光源,防止光源高亮过热损坏,并有效延长光源使用寿命;15)镜头安全功能:双重防撞保护,软件ZSTOP防撞保护,设置后即以当前位置为位移下限位,不再下移且伴有报警声;设备配备压力传感器,并在镜头处进行了弹簧结构设计,确保当镜头碰撞后弹性回缩,进入急停状态,大幅减小碰撞冲击力,有效保护镜头和扫描轴,消除人为操作的安全风险。测量特点针对完成样品超光滑凹面弧形扫描所需同时满足的高精度、大扫描范围的需求,SuperViewW中图仪器非接触式光学3D表面形貌测量系统的复合型EPSI重建算法,解决了传统相移法PSI扫描范围小、垂直法VSI精度低的双重缺点。在自动拼接模块下,只需要确定起点和终点,即可自动扫描,重建其超光滑的表面区域,不见一丝重叠缝隙。特殊光源模式,可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。应用领域图片对各种产品、部件和材料表面的粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。部分技术指标型号 W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配:10×选配:2.5×、5×、20×、50×、100×光学ZOOM标配:0.5×选配:0.375×、0.75×、1×标准视场0.98×0.98㎜(10×)XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式手动和电动兼容型Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动台阶测量可测样品反射率0.05%~100主机尺寸700×600×900㎜恳请注意:因市场发展和产品开发的需要,本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改,恕不另行通知,不便之处敬请谅解。
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  • 微区电化学测试系统 400-860-5168转0858
    仪器简介: VersaScan微区扫描电化学工作站是一个建立在电化学扫描探针的设计基础上的,进行超高测量分辨率及空间分辨率的非接触式微区形貌及电化学微区测试系统。它是提供给电化学及材料测试以极高空间分辨率的一个测试平台。每个VersaSCAN都具有高分辨率,长工作距离的闭环定位系统并安装于抗震光学平台上。不同的辅助选件都安装于定位系统上,辅助选件包括,如电位计,压电振动单元,或者激光传感器,为不同扫描探针试验,定位系统提供不同的功能。VersaSTAT恒电位仪和Signal Recovery 7230锁相放大器和定位系统整合在一起,由以太网来控制,保证小信号的精确测量。它 是一个模块化配置的系统,可以实现如下现今所有微区扫描探针电化学技术以及激光非接触式微区形貌测试:Scanning Electrochemical Microscopy (SECM) 扫描电化学显微镜Scanning Vibrating Electrode Technique (SVET) 扫描振动电极测试Scanning Kelvin Probe (SKP) 扫描开尔文探针测试Localized Electrochemical Impedance Spectroscopy (LEIS) 微区电化学阻抗测试Scanning Droplet Cell (SDC) 扫描电解液微滴测试Non-Contact Surface Profiling (OSP) 非触式光学微区形貌测试以上每项技术使用不同的测量探针,且安装位置与样品非常接近,但是不接触到样品。随着探针测试的进行,改变探针的空间位置。然后将所记录的数据对探针位置作图,针对不同技术,该图可以呈现微区电化学电流,阻抗,相对功函或者是表面形貌图。应用: 不锈钢和铝等材料的点蚀检测、成长过程在线监测等; 有机和金属涂层缺陷和完整性研究; 金属/有机涂层界面的腐蚀的机制与检测; 有机涂层的剥离和脱落机制; 钝化处理的不锈钢焊接热影响区的电位分布;  干湿循环的碳钢和不锈钢的阴极区和阳极区的分布行为; 薄液层下氧还原反应和金属的腐蚀过程的特征; 模拟不同大气环境的腐蚀电位在线监测; 铝合金等材料在大气环境中局部腐蚀敏感性; 铝合金的丝状腐蚀(filiform corrosion); 硅烷L-B膜修饰金属表面的结构和稳定性; 锌-铁偶合金属界面区的电位分布特征; 磷化处理锌表面的碳微粒污染检测; 检测微小金属表面的应力分布和应力腐蚀开裂; 检测金属和半导体材料微小区域的表面清洁度,缺陷,损伤和均匀程度; 研究和评价气相缓蚀剂性能; 电化学传感器;
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非触式微区形貌测试系统相关的资讯

  • 材料微区结构与形貌分析方法研究及应用
    材料的微区结构与形貌特征具有重要的研究意义,常用的分析方法有光学显微镜、扫描电子显微镜、能谱和电子背散射衍射、透射电子显微镜、扫描隧道显微镜、原子力显微镜、X射线CT等。为帮助广大工作者了解前沿表征与分析检测技术,解决材料表征与分析检测难题,开展表征与检测相关工作,仪器信息网将于2023年12月18-21日举办第五届材料表征与分析检测技术网络会议,特别设置微区结构与形貌分析专场,邀请多位专家学者围绕材料微区结构与形貌分析技术研究与相关应用展开分享。部分报告预告如下(按报告时间排序):天津大学材料学院测试中心副主任/副高 毛晶《透射电子显微镜技术在材料微区结构及形貌分析中的应用研究》点击报名听会毛晶,天津大学材料学院测试中心副主任/副高。负责透射电镜、X射线衍射仪及透射相关制样仪器(包括球差透射电镜、离子减薄仪等)的运行维护及分析测试工作,具有较丰富的测试经验。熟悉其他各种大型仪器,包括XPS 、FIB 、 SEM等仪器原理、构造及使用。2017年赴美国布鲁克海文国家实验室纳米功能所透射电镜组研修一年。掌握球差及冷冻杆、原位加热杆、电感、三维重构等各种透射电镜先进技术。通过合作的模式将其应用在各种纳米及能源材料的表征中。报告摘要:透射电子显微镜技术具有高分辨率,可以实现原子尺度材料结构及形貌观察,是材料研究必不可少的手段。本报告主要介绍透射电子显微技术在材料微区结构及形貌分析的应用研究,例如透射电镜STEM技术在电催化材料界面中的研究应用、纳米束衍射及中心暗场像在合金材料析出相观察等,并围绕具体工作对透射电子显微镜相关数据处理技术例如几何相位分析、三维成像技术等进行简单的介绍。牛津仪器科技(上海)有限公司应用科学家 杨小鹏《牛津仪器多种显微分析技术及成像系统的介绍及应用》点击报名听会杨小鹏,博士,2010年毕业于清华大学材料科学与工程系。在校期间主要研究材料相变及表征微观组织,熟悉SEM、XRD、TEM、同步辐射等技术手段。曾任职EBSD后处理功能软件开发,熟悉晶体学及EBSD技术底层的计算。2014年加入牛津仪器,主要负责EBSD技术支持及应用推广。报告摘要:本报告主要介绍牛津仪器MAG部门的多种显微分析技术及成像系统,包括NA部门的EDS和EBSD,在电镜上提供微区的元素和结构分析;全新的Unity探测器,集合了BSE图像探测器和X光探测器,适合快速、大区域、实时的样品表面形貌和成分成像;AZtecWave系统将Wave波谱仪整合到成熟的微区分析系统AZtec中,有效提高了波谱仪的操控性,适合微量、痕量元素的高精度定量分析,也能有效避免元素的重叠峰。AR部门的原子力显微镜,如Cypher、Jupiter等,能提供高通量、高分辨的原子力显微镜成像,适合多种物性的分析和研究。WiTec部门提供的高灵敏度、高分辨激光共聚焦拉曼显微镜,通过分析微区的化学键,可以提供相、结晶性、含量等丰富的信息,分辨率达到300nm,也能做浅表层的3D成像。拉曼显微镜还能和电镜整合成一体化的联用系统,适合快速多技术分析同一感兴趣区。报告还会介绍几个多技术联用的应用案例。徕卡显微系统(上海)贸易有限公司应用工程师 姚永朋《徕卡光学显微镜在不同尺度下的形貌表征》点击报名听会姚永朋,徕卡显微系统工业显微镜应用工程师,负责徕卡工业显微镜技术支持工作,在制样及显微观察等方面经验丰富。报告摘要:光学显微镜是材料表面及微观结构观察分析中的常用仪器,此次报告将分别介绍徕卡体式显微镜、金相显微镜、数码显微镜等不同类型的光学显微镜在不同尺度下的表面结构观察及分析应用。华中科技大学,武汉光电国家研究中心教授 李露颖《半导体纳米材料原子尺度结构性能研究》点击报名听会李露颖,华中科技大学武汉光电国家研究中心教授,博士生导师。2011年5月毕业于美国亚利桑那州立大学,获博士学位,主要从事半导体纳米材料原子分辨率微结构及纳米尺度电学性能的结合研究,重点关注材料的特定原子结构及相应电势、电场、电荷分布对宏观物理性质的影响,取得了一系列有影响力的研究成果,工作被Nature Physics 杂志选为研究亮点,并评价为结构-性能相关研究的典范。到目前为止累积发表SCI 收录第一作者或通讯作者论文39篇(IF≥10的21篇),包括Advanced Materials、Nano Letters、Nature Communications、Advance Science、Advanced Functional Materials、Science Bulletin、ACS Nano、Nano Energy、Chemical Engineering Journal、Small等,论文总引用4500余次,H因子为31,多次受邀在国际国内电子显微学年会上做邀请报告,目前担任湖北省电子显微镜学会理事。报告摘要:结合电子全息技术的纳米尺度定量电学性能表征功能和球差校正技术的原子分辨率微结构表征功能,实现了半导体纳米材料电荷分布的电子全息研究,半导体纳米材料界面纳米尺度电场与原子尺度微结构的结合研究,以及各种外界激励下半导体纳米材料及器件的原位结构性能相关研究。 利用电子全息技术,得到了IV族Ge/Si族量子点和核壳结构纳米线、III-V族GaAs/InAs纳米线、量子点和量子阱组合器件的电荷分布情况,以及n-ZnO/i-ZnO/p-AlGaN异质结发光二极管性能增强的微观机理;利用球差校正技术的原子尺度表征功能,获得了复合半导体ZnSe纳米带同质异构结中自发极化相关电荷裁剪效应的直接实验证据,并对InSe纳米棒中多型体界面极化场进行了原子尺度定量研究。同时通过精确测定(K,Na)NbO3铁电纳米线界面原子尺度极化场,获得其相应材料在退火后宏观压电效应线性增加的微观机制。利用原位热学表征技术,研究了KxWO3纳米片中阳离子有序结构并随温度的变化规律,CsPbBr3纳米晶中 Ruddlesden–Popper层错的调控机制及其对光致发光性能的影响机理;利用原子尺度的原位热学表征技术研究了PbSe纳米晶随尺寸变化的晶体生长和升华机制。利用原位力学表征技术获得MXene高性能压阻传感器的微观作用机理。上海交通大学分析测试中心冷冻电镜中心副主任 郭新秋《透射电镜表征磁性材料样品的前处理技术路线探索》点击报名听会郭新秋,上海交通大学分析测试中心冷冻电镜中心副主任。长期在透射电镜相关领域的测试一线工作,在场发射透射电镜、冷冻透射电镜及相关样品制备等方面积累了丰富的表征分析经验,主持或参与多项显微成像方法学研究课题,支撑相关团队在Small, Nature Physics, Nature communications, energy & environmental science等期刊上发表多篇高水平论文。报告摘要:透射电镜是以波长极短的电子束作为照明源,用电磁透镜对透射电子聚焦成像的一种具有高分辨本领、高放大倍数的大型电子光学仪器。作为一种先进的表征手段,透射电子显微技术在各种功能材料的研究中发挥了重要的作用。磁性材料指能直接或间接产生磁性的一类材料,通常含有铁、钴、镍、钕、硼、钐以及稀土金属(镧系),其磁性强弱与样品本身的含量和价态相关。随着表征技术的快速进步,磁性材料的设计与应用不断更新,相关的研究广受关注。不同组成、不同结构的磁性材料展现出不同的化学与磁学特性,在众多领域都有着广泛的应用。但是,由于透射电镜原理是基于电子与磁场的相互作用来进行成像,镜筒内部磁场强度高达2T以上,如果样品未固定好,更会发生被吸到极靴上的危险。镜筒一旦受到磁性颗粒污染则很难处理,长时间的积累对电镜是一种慢性伤害。在调研中得知,有实验室就发生过此类事件,最终不得不拆机进行维修。还有一些高校平台直接在网站上明确表明了无法进行磁性材料测试。本报告提出了一种透射电镜表征磁性材料的前处理的分类和方法,希望对广发电镜工作者和科研工作者有所帮助。弗尔德(上海)仪器设备有限公司应用经理 王波《二维及三维EBSD分析样品的高效制备方法介绍及应用》点击报名听会王波,天津大学材料学专业博士毕业,曾在摩托罗拉-实验室(亚洲)担任高级失效分析工程师及资深实验室经理。2013年起先后担任知名美国金相品牌亚太区应用主管及德国ATM品牌中国区应用经理。在先进制样尤其是EBSD样品制备方面拥有丰富的经验,并应邀在国内进行过多场金相制样技术讲座,分享最新的样品制备理论、设备耗材及应用案例,深受好评。报告摘要:EBSD分析样品的制备极具挑战性,导致科研人员常会遇到制样成本高、效率低、成功率低等问题。本讲座将着重介绍现代金相制样方法——机械磨抛法及电解抛光法高效制备EBSD分析样品的基本理论、适用范围、技术难点、实操技巧及应用案例,分享经济、高效制备EBSD样品的思路和经验。同时,使用3D分析表征和重构技术,从(亚)纳米到毫米的尺度来研究微观组织和性能的关系已经成为关注热点。讲座也将介绍基于金相连续切片重构和EBSD技术的大体积材料三维EBSD分析样品制备的最新进展和解决方案。钢研纳克检测技术股份有限公司高级工程师 李云玲《原位拉伸及电子背散射衍射在金属材料微观表征中应》点击报名听会李云玲,钢研纳克检测技术股份有限公司高级工程师,从事金属材料微观表征工作10余年,主要研究方向包括金属构件失效分析、断口分析、微观表征技术等。独立完成400余项材料失效分析案例。完成的典型项目有:某型号舰艇动力系统部件失效原因分析、高铁车轮裂纹原因分析、核电乏燃料池不锈钢壁附着物分析、国电逆流变部件失效原因分析、合成氨设备焊接裂纹分析等。大型失效分析项目的完成,为国防设备可靠性提供了技术支持,挽回了客户大量经济损失,得到企业的多次好评。相关工作成果多次在全国钢铁材料扫描电镜图像竞赛及金相比赛中获奖,在国外SCI、EI、中文核心等期刊上发表论文20余篇,参与起草修订多个团体标准,如《钢中夹杂物的自动分类和统计扫描电镜能谱法》(T/CSTM 00346-2021)、《钢中晶粒尺寸测定 高温激光共聚焦显微镜法》(T/CSTM 00799-2023)、《材料实验数据扫描电镜图片要求》(T/CSTM 00795-2022)等。报告摘要:从原位拉伸(in-situ tensile)及电子背散射衍射(EBSD)的基本理论及基本方法出发,介绍两种新技术在金属材料微观表征中的应用,阐述其技术应用过程,包括但不限于在微观表征领域的重要作用,最后从当前技术局限出发探讨未来可能的重要创新。布鲁克(北京)科技有限公司应用科学家 陈剑锋《布鲁克的平插能谱仪与微区XRF介绍》点击报名听会陈剑锋,2003年毕业于中科院长春应化所,主要研究方向是高分辨电子显微镜在高分子结晶中的应用,毕业后加入FEI,负责SEM/SDB的应用、培训以及市场等推广工作。2011年加入安捷伦公司负责SEM的市场和应用工作,2018年在赛默飞负责SEM的应用工作。2021年加入布鲁克,负责EDS,、EBSD、 Micro-XRF等产品的技术支持工作,对电子显微镜的相关应用具有多年的实操经验。报告摘要:布鲁克独有的平插能谱探头因其独特的设计,具有更大的立体角,使能谱分析在低能谱线的采集方面有很大的优势,尤其是目前比较流行的纳米结构材料的分析,而微区荧光在检测限上的优势则是目前工业,地质,环境检测等领域进行重金属元素,微量元素的强有力的工具,在相关的领域中也得到了越来越广泛的应用。本报告将主要介绍布鲁克公司的平插能谱和微区荧光产品及其应用。中国科学院上海硅酸盐研究所研究员 程国峰《X射线三维成像技术及应用》点击报名听会程国峰,理学博士,博士生导师,中国科学院上海硅酸盐研究所 X射线衍射结构表征课题组组长。中国晶体学会粉末衍射专业委员会委员、中国物理学会固体缺陷专业委员会委员、上海市物理学会X射线衍射与同步辐射专业委员会副主任兼秘书长。主要研究领域为X射线衍射与散射理论及应用、三维X射线成像术、拉曼光谱学等。曾先后主持国家自然科学基金、上海市和中国科学院项目多项,主编出版《纳米材料的X射线分析》、《二维X射线衍射》等专译著4部,发布国家标准和企业标准12项,获专利授权7项,在Nat. Mater.,J. Appl. Phys.,Mater. Lett.等SCI期刊上发表论文90余篇。参会指南1、进入第五届材料表征与分析检测技术网络会议官网(https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/icmc2023/)进行报名。扫描下方二维码,进入会议官网报名2、会议召开前统一报名审核,审核通过后将以短信形式向报名手机号发送在线听会链接。3、本次会议不收取任何注册或报名费用。4、会议联系人:高老师(电话:010-51654077-8285 邮箱:gaolj@instrument.com.cn)5、赞助联系人:周老师(电话:010-51654077-8120 邮箱:zhouhh@instrument.com.cn)
  • 布鲁克携ContourGT非接触式三维光学形貌仪参加第14届中国光博会
    布鲁克公司纳米表面仪器部携ContourGT非接触式三维光学形貌仪参加2012年第14届中国光博会布鲁克公司纳米表面仪器在本届光博会上展出最新的ContourGT非接触式三维光学形貌仪,具有优异的抗噪声特性,能实现定标性测量的重复性和再现性,拥有业界最高垂直分辨率,适用于对各种复杂精密元器件形状的高精度质量管理工作,精确测量表面形貌、台阶高度和表面粗糙度等。 作为表面观测和测量技术的全球领导者,布鲁克公司纳米表面仪器部提供世界上最完整的原子力显微镜、三维非接触式光学形貌仪和探针式表面轮廓仪系列产品。布鲁克公司纳米表面仪器部一直着眼于研发新的计量检测方法和工具,不断迎接挑战,致力于为客户解决各种技术难题,提供最完善的解决方案。此外,还可根据工业生产中的操作模式和操作习惯,精简仪器功能,针对生产中的特定应用需求,为客户量身打造相匹配的仪器设备,简化生产过程的操作流程,提高工作效率。布鲁克的表面测量仪器广泛用于大学、研究所,工业领域的LED行业、太阳能行业、触摸屏行业、半导体行业以及数据存储行业等,进行科学研究、产品开发、质量控制及失效分析,提供符合需求和预算的最佳解决方案。ContourGT 光学形貌仪广泛应用于触摸屏、高亮度LED、太阳能电池、模具、零部件测量等各种领域该系列包括基本型ContourGT-K0,桌上型ContourGT-K1,中端型号ContourGT-X3,以及旗舰型号ContourGT-X8和ContourGT-X8 PSS(该型号专为高亮度LED的质量保证/质量监控而设计)等。每一种型号为用户的不同需求提供解决方案,以满足在精密制造和特定行业的要求,如高亮度LED、触摸屏、太阳能电池、隐形眼镜、半导体、硬盘、汽车和骨科等NPFLEX 三维表面测量系统为大尺寸工件精密加工提供准确测量布鲁克的NPFLEX 三维表面测量系统为大样品表面提供了灵活的非接触式测量方案,可广泛用于医疗植入、航空航天、汽车或精密加工上的大型、异型工件的测量。 基于白光干涉原理,NPFLEX 为用户提供超过接触式方法所能达到的更大数据量、更高分辨率和更好的重复性,使它成为独立或者互补的测量方案。开放式的拱门设计克服了以往某些零件由于角度或取向造成的测量困难,可实现超过300度的测量空间。NPFLEX的超级灵活性、数据准确性和测试效率为精密加工行业提供了一种简单的方法,来实现其更苛刻的加工要求、更高效的加工工艺和更好的终端产品。 客户服务热线:400-890-5666 邮箱:sales.asia@bruker-nano.com
  • 布鲁克携ContourGT非接触式三维光学形貌仪参加第15届中国光博会
    布鲁克公司纳米表面仪器部携ContourGT非接触式三维光学形貌仪参加2013年第15届中国光博会布鲁克公司纳米表面仪器在本届光博会上展出最新的ContourGT非接触式三维光学形貌仪,具有优异的抗噪声特性,能实现定标性测量的重复性和再现性,拥有业界最高垂直分辨率,适用于对各种复杂精密元器件形状的高精度质量管理工作,精确测量表面形貌、台阶高度和表面粗糙度等。 客户服务热线:010- 5833 3252 邮箱:sales.asia@bruker-nano.com 作为表面观测和测量技术的全球领导者,布鲁克公司纳米表面仪器部提供世界上最完整的原子力显微镜、三维非接触式光学形貌仪和探针式表面轮廓仪系列产品。布鲁克公司纳米表面仪器部一直着眼于研发新的计量检测方法和工具,不断迎接挑战,致力于为客户解决各种技术难题,提供最完善的解决方案。此外,还可根据工业生产中的操作模式和操作习惯,精简仪器功能,针对生产中的特定应用需求,为客户量身打造相匹配的仪器设备,简化生产过程的操作流程,提高工作效率。布鲁克的表面测量仪器广泛用于大学、研究所,工业领域的LED行业、太阳能行业、触摸屏行业、半导体行业以及数据存储行业等,进行科学研究、产品开发、质量控制及失效分析,提供符合需求和预算的最佳解决方案。ContourGT 光学形貌仪广泛应用于触摸屏、高亮度LED、太阳能电池、模具、零部件测量等各种领域该系列包括基本型ContourGT-K0,桌上型ContourGT-K1,中端型号ContourGT-X3,以及旗舰型号ContourGT-X8和ContourGT-X8 PSS(该型号专为高亮度LED的质量保证/质量监控而设计)等。每一种型号为用户的不同需求提供解决方案,以满足在精密制造和特定行业的要求,如高亮度LED、触摸屏、太阳能电池、隐形眼镜、半导体、硬盘、汽车和骨科等NPFLEX 三维表面测量系统为大尺寸工件精密加工提供准确测量布鲁克的NPFLEX 三维表面测量系统为大样品表面提供了灵活的非接触式测量方案,可广泛用于医疗植入、航空航天、汽车或精密加工上的大型、异型工件的测量。 基于白光干涉原理,NPFLEX 为用户提供超过接触式方法所能达到的更大数据量、更高分辨率和更好的重复性,使它成为独立或者互补的测量方案。开放式的拱门设计克服了以往某些零件由于角度或取向造成的测量困难,可实现超过300度的测量空间。NPFLEX的超级灵活性、数据准确性和测试效率为精密加工行业提供了一种简单的方法,来实现其更苛刻的加工要求、更高效的加工工艺和更好的终端产品。 客户服务热线:010- 5833 3252 邮箱:sales.asia@bruker-nano.com

非触式微区形貌测试系统相关的方案

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非触式微区形貌测试系统相关的论坛

  • 微纳形貌分析利器——4D微纳形貌动态表征DHM

    微纳形貌分析利器——4D微纳形貌动态表征DHM

    科研史上前所未有的观测手段——数字全息DHM可高速实时测量三维形貌,达到了亚纳米精度。克服了传统AFM、CLSM等需要扫描进行三维成像的特性。 表征透明/半透明三维形貌Ø 测量厚度从几纳米到几十微米Ø 可测最高三层透明薄膜Ø 测量薄膜折射率Ø 微纳器件动态三维形貌时序图(1000fps), 还可测频率响应(高达25MHz) 主要应用北京大学 搭建平面应变鼓膜实验平台测量纳米薄膜的动态力学性能天津大学 微结构表面形貌和运动特性测量华中科技大学 微纳制造与测试,微小光学元件检测,微电子制造封装与测试清华大学 透射式全息显微镜,测量透明样品形貌,还可以测量材料光学参数、内部结构以及缺陷杂质等 • 超快速高精度的三维成像,大面积三维形貌表征,表面粗糙度,MEMS振动测量分析,表征微流体器件和微颗粒三维追踪测试配合MEMS Analysis Tool、光学反射软件Reflectometry Analysis等专用软件实现更多功能[img=,600,400]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131406_01_1546_3.gif[/img][img=,384,216]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131407_01_1546_3.gif[/img][img=,690,]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131406_02_1546_3.jpg[/img]

  • 微纳形貌分析利器——4D微纳形貌动态表征

    微纳形貌分析利器——4D微纳形貌动态表征

    科研史上前所未有的观测手段——数字全息可高速实时测量三维形貌,达到了亚纳米精度。克服了传统AFM、CLSM等需要扫描进行三维成像的特性。 表征透明/半透明三维形貌Ø 测量厚度从几纳米到几十微米Ø 可测最高三层透明薄膜Ø 测量薄膜折射率Ø 微纳器件动态三维形貌时序图(1000fps), 还可测频率响应(高达25MHz) 主要应用北京大学 搭建平面应变鼓膜实验平台测量纳米薄膜的动态力学性能天津大学 微结构表面形貌和运动特性测量华中科技大学 微纳制造与测试,微小光学元件检测,微电子制造封装与测试清华大学 透射式全息显微镜,测量透明样品形貌,还可以测量材料光学参数、内部结构以及缺陷杂质等 • 超快速高精度的三维成像,大面积三维形貌表征,表面粗糙度,MEMS振动测量分析,表征微流体器件和微颗粒三维追踪测试配合MEMS Analysis Tool、光学反射软件Reflectometry Analysis等专用软件实现更多功能[img=,690,]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131349_01_1546_3.jpg[/img][img=,600,400]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131350_01_1546_3.gif[/img][img=,384,216]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131351_01_1546_3.gif[/img][img=,384,216]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131354_01_1546_3.gif[/img][img=,384,216]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131351_04_1546_3.gif[/img][img=,384,]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131358_01_1546_3.jpg[/img]

  • 微纳形貌分析利器——4D微纳形貌动态表征DHM

    微纳形貌分析利器——4D微纳形貌动态表征DHM

    科研史上前所未有的观测手段——数字全息DHM可高速实时测量三维形貌,达到了亚纳米精度。克服了传统AFM、CLSM等需要扫描进行三维成像的特性。 表征透明/半透明三维形貌Ø 测量厚度从几纳米到几十微米Ø 可测最高三层透明薄膜Ø 测量薄膜折射率Ø 微纳器件动态三维形貌时序图(1000fps), 还可测频率响应(高达25MHz) 主要应用北京大学 搭建平面应变鼓膜实验平台测量纳米薄膜的动态力学性能天津大学 微结构表面形貌和运动特性测量华中科技大学 微纳制造与测试,微小光学元件检测,微电子制造封装与测试清华大学 透射式全息显微镜,测量透明样品形貌,还可以测量材料光学参数、内部结构以及缺陷杂质等 • 超快速高精度的三维成像,大面积三维形貌表征,表面粗糙度,MEMS振动测量分析,表征微流体器件和微颗粒三维追踪测试配合MEMS Analysis Tool、光学反射软件Reflectometry Analysis等专用软件实现更多功能[img=,600,400]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131410_01_1546_3.gif[/img][img=,690,]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131410_02_1546_3.jpg[/img][img=,384,216]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131410_03_1546_3.gif[/img][img=,384,216]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131410_04_1546_3.gif[/img]

非触式微区形貌测试系统相关的耗材

  • 三维表面形貌仪配件
    三维表面形貌仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器,也是一款光学表面形貌仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面形貌仪配件根据国际标准计算2D和3D参数,使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析,依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算,从而保证了国际公信力,以标准方案或定制性方案对二维形貌或三维形貌表面形貌和表面纹理,微米和纳米形状,圆盘,圆度,球度,台阶高度,距离,面积,角度和体积进行多范围测量,创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术,一套表面形貌仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维形貌仪配件参数: 定位台行程范围:X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围: 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围: 范围:300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围:480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围:1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围:3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面形貌仪配件应用:测量轮廓,台阶高度,表面形貌,距离,面积,体积 分析形态,粗糙度,波纹度,平整度,颗粒度 摩擦学研究,光谱分析 磨料磨具,航天,汽车,化妆品,能源,医疗,微机电系统,冶金,造纸和塑料等领域。
  • 表面形貌仪配件
    表面形貌仪配件又称为光学形貌仪或三维形貌仪,它除了用于测量物件的表面形貌或表面轮廓外,具有测量晶圆翘曲度的功能,非常适合晶圆,太阳能电池和玻璃面板的翘曲度测量,应变测量以及表面形貌测量。 三维形貌仪主要配件应用 用于太阳能电池测量 用于半导体晶圆测量 用于镀膜玻璃的平整度(Flatness)测量 用于机械部件的计量 用于塑料,金属和其他复合型材料工件的测量 表面形貌仪配件特色 *除了表面形貌的测量,还可以测量张量和应力(简单); *可测量晶圆的尺寸为0.5' ' 到12' ' , 最高可达45x45cm的尺寸,对于小于0.5' ' 的晶圆或样品,可配备微距镜头。 *测量晶圆或其他样品的表面形貌,粗糙度和翘曲度; *克服常见干涉仪在粗糙表面(油漆)表现不足的问题; *非接触式测量
  • 改良式微量凯氏定氮装置
    改良式微量凯氏定氮装置,改良式微量凯式定氮装置,改良式微量凯式定氮器,改良式微量凯式定氮仪用于蛋白质的测定将自来水经(1)注入到蒸馏瓶夹层中,使水面稍低于蒸馏瓶颈部的转弯处,把装有2%硼酸溶液的接受瓶,置于冷凝器的下方,冷凝器的尖端插入酸液面以下,接收瓶内须事先加入指示剂。将样品由漏斗注入到蒸馏瓶中,并以少量水冲洗漏斗相关仪器有:毛氏法:毛氏抽脂瓶,毛氏离心机,毛氏水浴锅,毛氏摇混器巴布科克法:巴布科克乳脂瓶罗兹哥特里法:罗兹哥特里抽脂瓶盖勃法:盖勃乳脂肪离心机,盖勃乳脂计,11ml和10.75ml单标牛乳吸管,10ml硫酸量取器,1ml戌异醇自动量取器乳品杂质度的测定:HL-GB2乳品杂质度过滤机,杂质度过滤板,杂质度标准板,杂质度标准板说明书,带带铝盒等乳稠度的测定:HL-15A乳稠计,乳品电子温度计乳品硝酸盐与亚硝酸盐的检测:镉柱还原装置,镀铜镉粒乳品溶解度的检测:不溶度指数搅拌器,指数搅拌杯,柱底离心管,不溶度指数离心机
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