薄膜规

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薄膜规相关的厂商

  • 公司实验室一批二手仪器,保养得当。
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  • 杭州析亚科技有限公司成立于2019年,地理位置优越,坐落于西子湖畔的杭州余杭经济技术开发区,是一家拥有自主创新技术实力的高科技公司,以坚持“科技创新、质量为先”的管理信念为初心,始终坚信“质量、服务、创新才是发展的硬道理”。公司将一直专注于仪器及设备的研发、定制、生产及销售,目前主营产品有:干燥机、分子蒸馏仪、薄膜蒸发器、定氮仪、石墨消解仪等。公司依靠优良的品质、优越的性能、优质的服务、优惠的价格赢取用户的满意来赢取市场,为客户提供定制化服务。
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薄膜规相关的仪器

  • Agilent PCG-750 规管将皮拉尼和陶瓷电容薄膜规管一体化,具备气体类型单独测量的特点,并提高了从大气压到 5x 10 -5 mbar (3.8 x 10 -5 Torr) 的测量精度。应用领域:真空测量- 高准确度和高重现性使大气压监测更为可靠- 快速大气压检测缩短了流程的循环周期- 对于 10 mbar 以上的压力,测量结果与气体种类无关,所以可安全排放任何混合气体- 坚固紧凑的外壳能以任何角度安装,易于集成到系统中- 设定点控制利用压力读数来执行关键操作- 可替换的即插即用传感器易于维修,降低了用户的使用维护成本- 镍灯丝选件提供了腐蚀性应用解决方案- 可选的高亮度彩色 LCD 显示屏,使压力读数更易监测。- 适合真空压力的安全监控、前级真空压力监控和进出样室控制,以及中级和粗真空范围内的常规真空测量和控制。- 采用便携式设计,并包括一个明亮且便于读数的显示屏。
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  • 薄膜太阳电池QE测试专用系统 SCS10-Film适用范围: 非晶硅薄膜电池、CIGS 薄膜电池、CdTe 薄膜电池、非晶/ 微晶双结薄膜电池、非晶/ 微晶/微晶锗硅三结薄膜电池等光谱范围:300~1700nm电池结构:单结、多结太阳电池可测参数:光谱响应度、外量子效率、反射率、透射率、内量子效率、短路电流密度可测样品面积:300mm×300mm● 集成一体化turnkey系统● 大面积薄膜电池测试专用● 超大样品室,光纤传导● 背面电极快速连接● 反射率、内外量子效率同步测试● 快速高效售后服务 SCS10-Film系统规格 光源150W高稳定性氙灯,光学稳定度≤0.4%,光纤传导测试光斑尺寸2mm~10mm可调单色仪三光栅DSP扫描单色仪波长范围300nm~1700nm波长准确度±0.2nm(@1200g/mm,500nm)扫描间隔最小可达0.1nm,默认设置10nm输出波长带宽0.1nm~10nm可调,默认设置5nm多级光谱滤除装置根据波长自动切换,消除多级光谱的影响光调制频率4~400Hz标准探测器进口Si光电探测器,含校正测试报告数据采集装置灵敏度直流模式:100nA;交流模式:2nV测量重复精度0.6%( 400~1000nm范围0.3%)测量速度单次光谱响应扫描 1min 完整流程扫描 5min(扫描间隔10nm)样品加持探针样品台,156mm×156mm,特殊样品台可定制*Mapping扫描速度:20点/s(@0.5mm step)分辨率:0.5mm仪器尺寸主机:;样品室:控制机柜:800mm×600mm×1300mm计算机及软件系统含工控计算机、显示器、鼠标、键盘,正版windows 7操作系统,系统软件安装光盘
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  • 太阳能电池量子效率测试系统——SolarCellScan100系列系统功能系统可以实现测试太阳电池的:光谱响应度、外量子效率、内量子效率、反射率、透射率、短路电流密度、量子效率Mapping、反射率Mapping。系统适用范围1、适用于各种材料的太阳电池包括:单晶硅Si、多晶硅mc-Si、非晶硅α-Si、砷化镓GaAs、镓铟磷GaInP、磷化铟InP、锗Ge、碲化镉CdTe、铜铟硒CIS、铜铟镓硒CIGS、染料敏化DSSC、有机太阳电池Organic Solar Cell、聚合物太阳电池Polymer Solar Cell 等2、适用于多种结构的太阳电池包括:单结Single junction、多结multi junction、异质结HIT、薄膜thin film、高聚光HPV 等不同材料或不同结构的太阳电池,在测试过程中会有细节上的差异。比如说:有机太阳电池的测试范围主要集中在可见光波段,而GaAs 太阳电池的测试范围则很可能扩展到红外1.4um 甚至更长波段;单晶硅电池通常需要测内量子效率,而染料敏化太阳电池通常只需要测外量子效率;有机太阳电池测试通常不需要加偏置光,而多结非晶硅薄膜电池则需要加偏置光……SolarCellScan100 通过主机与各种附件的搭配,可以实现几乎所有种类电池的测试。这种模块化搭配的方式,适合科研用户建立测试平台。 选型列表:型号名称和说明主机SCS1011太阳能电池量子效率测量系统,含直流、交流测量模式,氙灯光源SCS1012太阳能电池量子效率测量系统,含直流测量模式,氙灯光源SCS1013太阳能电池量子效率测量系统,含直流、交流测量模式,溴钨灯光源SCS1014太阳能电池量子效率测量系统,含直流测量模式,溴钨灯光源SCS1015太阳能电池量子效率测量系统,含直流、交流测量模式,氙灯溴钨灯双光源SCS1016太阳能电池量子效率测量系统,含直流测量模式,氙灯溴钨灯双光源附件QE-A1偏置光附件,150W氙灯QE-A2偏置光附件,50W溴钨灯QE-B1标准太阳电池(单晶硅)QE-B1-SP标准太阳电池QE-B2标准铟镓砷探测器(800-1700nm,含标定证书)QE-B3标准硅探测器(300-1100nm,含标定证书)QE-B4标准铟镓砷探测器(800-2500nm,含标定证书)QE-B7透过率测试附件(300-1100nm)QE-B8透过率测试附件(800-1700nm)QE-BVS偏置电压源(±10V可调)QE-C2漫反射率测试附件(300-1700nm)QE-C7标准漫反射板QE-D1二维电动调整台QE-D2手动三维调整台QE-IV-Convertor短路电流放大器专用机型介绍系统功能部分太阳能应用方向的研究人员需要测量量子效率,但本身却不是光电测量方面的行家,卓立汉光在测量平台SolarCellScan100的基础上,进一步开发出以下几套极具针对性的专用机型配置,方便客户使用。以下的专用配置也适合产业化的工业客户使用。1、通用型太阳电池QE测试系统SCS100-Std系统特点符合IEC60904-8国际标准;测量结果高重复性;内外量子效率测量功能;快速导入参数功能;适用于科研级别小样品测试适用范围: 晶体硅电池、非晶硅薄膜电池、染料敏化电池、CdTe薄膜电池、CIGS薄膜电池等; 光谱范围: 300~1100nm; 电池结构: 单结太阳电池; 可测参数: 光谱响应度、外量子效率、内量子效率、反射率、短路电流密度; 可测样品面积: 30mm×30mm 2.通用型太阳电池QE测试系统SCS100-Exp系统特点符合IEC60904-8国际标准;测量结果高重复性;高度自动化测量;双光源设计;红外光谱范围扩展;薄膜透过率测试功能;小面积、大面积样品测试均适用;适用范围: 晶体硅电池、非晶硅薄膜电池、染料敏化电池、有机薄膜电池、CdTe薄膜电池、CIGS薄膜电池、三结砷化镓GaAs电池、非晶/微晶薄膜电池等; 光谱范围: 300~1700nm; 电池结构: 单结、多结太阳电池; 可测参数: 光谱响应度、外量子效率、内量子效率、反射率、透射率、短路电流密度; 可测样品面积: 156mm×156mm以下 3.晶体硅太阳电池测试专用系统 SCS100-Silicon系统特点集成一体化turnkey系统晶体硅电池测试专用内外量子效率测试快速Mapping扫描功能快速高效售后服务适用范围: 单晶硅电池、多晶硅电池 光谱范围: 300~1100nm 电池结构: 单结太阳电池 可测参数: 光谱响应度、外量子效率、反射率、内量子效率、短路电流密度、*量子效率Mapping、*反射率mapping 可测样品面积: 156mm×156mm 4.薄膜太阳电池QE测试专用系统 SCS100-Film系统特点集成一体化turnkey系统;大面积薄膜电池测试专用;超大样品室,光纤传导;背面电极快速连接;反射率、内外量子效率同步测试;快速高效售后服务。适用范围: 非晶硅薄膜电池、CIGS薄膜电池、CdTe薄膜电池、非晶/微晶双结薄膜电池、非晶/微晶/微晶锗硅三结薄膜电池等; 光谱范围: 300~1700nm ; 电池结构: 单结、多结太阳电池; 可测参数: 光谱响应度、外量子效率、反射率、透射率、内量子效率、短路电流密度; 可测样品面积: 300mm×300mm 5.光电化学太阳电池测试专用系统 SCS100-PEC系统特点光电化学类太阳电池专用配置方案;直流测量模式;低杂散光暗箱;电解池样品测试附件;经济型价格适用范围: 染料敏化太阳电池; 光谱范围: 300~1100nm; 电池结构: 光电化学相关的纳米晶太阳电池; 可测参数: IPCE; 可测样品面积: 50mm×50mm
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薄膜规相关的资讯

  • 显微拉曼光谱在测量晶圆(多晶硅薄膜)残余应力上的应用
    在半导体生产过程中,退火、切割、光刻、打线、封装等多个生产工序都会引入应力,而应力分为张应力和压应力;应力也分有益的和有害之分。应变 Si(strained Silicon 或 sSi)是指硅单晶受应力的作用,其晶格结构和晶格常数不同于未应变体硅晶体。应变的存在,使 Si 晶体结构由立方晶体特征向四方晶体结构特征转变,导致其能带结构发生变化,从而最终导致其载流子迁移率发生变化。研究表明,在 Si 单晶中分别引入张应变和压应变,可分别使其电子迁移率和空穴迁移率有显著的提升因而,从 Si CMOS IC 的 90nm 工艺开始,在 Si 器件沟道以及晶圆材料中引入应变,提高了器件沟道迁移率或材料载流子迁移率,从而提升器件和电流的高速性能。多晶硅薄膜是MEMS(micro-electro-mechanical systems)器件中重要的结构材料,通常在单晶硅基底上由沉积方法形成。由于薄膜与基底不同的热膨胀系数、沉积温度、沉积方式、环境条件等众多因素的综合作用,多晶硅薄膜一般都存在大小不一的拉应力或者压应力。作为结构材料多晶硅薄膜的材料力学性能在很大程度上决定了MEMS器件的可靠性和稳定性。而多晶硅薄膜的残余应力对其断裂强度、疲劳强度等力学性能有显著的影响。表面及亚表面损伤还会引起残余应力,残余应力的存在将影响晶圆的强度,引起晶圆的翘曲如图1所示。所以准确测量和表征多晶硅薄膜的残余应力对于生产成熟的MEMS器件具有重要的意义。图 1 翘曲的晶圆片图 2 Si N 致张应变 SOI 工艺原理示意图,随着具有压应力 SiN 淀积在 SOI 晶圆上,顶层 Si 便会因为受到 SiN 薄膜拉伸作用发生张应变应力的测试难度非常大。由于MEMS中的多晶硅薄膜具有明显的小尺度特征,准确测量多晶硅薄膜的残余应力并不是一件容易的事情。目前在对薄膜的残余应力测量中主要采用两种方法:一种是X射线衍射,通过测量薄膜晶体中晶格常数的变化来计算薄膜的残余应力,这种方法可以实现对薄膜微区残余应力的准确测量,但测量范围较小,且对试样的制备具有较高的要求,基本不能实现在线薄膜残余应力测量。另外一种就是显微拉曼谱测量法,该方法具有非接触、无损、宽频谱范围和高空间分辨率等优点。通过测量薄膜在残余应力作用下引起的材料拉曼谱峰的移动可推知薄膜的残余应力分布。该方法可以实现对薄膜试件应力状况的在线监测,是表征薄膜材料尤其是MEMS器件中薄膜材料残余应力的一种重要方法。用于力学测量的一般要具有高水平的波长稳定性的紫外或可见光激发光源,并具备高光谱分辨率(小于 1cm-1)的显微拉曼光谱系统。1. 测量原理1.1. 薄膜残余应力与拉曼谱峰移的关系拉曼谱测量薄膜残余应力的示意图如图2所示。激光器发出的单色激光(带箭头实线)经过带通滤波器和光束分离器以后经物镜汇聚照射到样品表面‚激光光子与薄膜原子相互碰撞造成激光光子的散射。其中发生非弹性碰撞的光束(带箭头虚线)经过光束分离器和反射滤波器后,汇聚到声谱仪上形成薄膜的拉曼谱峰。拉曼散射光谱的产生跟薄膜物质原子本身的振动相关,只有当薄膜物质的原子振动伴随有极化率的变化时,激光的光子才能跟薄膜物质原子发生相互作用而形成拉曼光谱。当薄膜存在拉或压的残余应力时,其原子的键长会相应地伸长或缩短,使薄膜的力常数减小或增大,因而原子的振动频率会减小或增大,拉曼谱的峰值会向低频或高频移动。此时,拉曼峰值频率的移动量与薄膜内部残余应力的大小具有线性关系,即Δδ=ασ或者σ=kΔδ,Δδ是薄膜拉曼峰值的频移量,σ是薄膜的残余应力,k和α称为应力因子。图 3 拉曼测量系统示意图图 4 拉曼光谱测试晶圆的示意图2. 多晶硅薄膜残余应力计算对于单晶硅,激光光子与其作用时存在3种光学振动模式,两种平面内的一种竖直方向上的,这与其晶体结构密切相关。当单晶硅中存在应变时,这几种模式下的光子振动频率可以通过求解特征矩阵方程ΔK- λI = 0获得。其中ΔK是应变条件下光子的力常数改变量(光子变形能)λi(i= 1 ,2,3)是与非扰动频率ω0和扰动频率ωi相关的参量(λi≈ 2ω0(ωi-ω0)),I是3×3单位矩阵。由于光子在多晶硅表面散射方向的随机性和薄膜制造过程的工艺性等许多因素的影响,使得利用拉曼谱法测量多晶硅薄膜的残余应力变得更加复杂。Anastassakis和Liarokapis应用Voigt-Reuss-Hill平均和张量不变性得出与单晶硅形式相同的多晶硅薄膜的光子振动频率特征方程式。此时采用的光子变形能常数分别是K11=-2.12ω02 K12=-1.65ω02 K33=-0.23ω02是光子的非扰动频率。与之相对应的柔度因子分别是S11= 6.20×10-12Pa-1S12=-1.39 ×10-12Pa-1S33= 15.17 ×10-12Pa-1对于桥式多晶硅薄膜残余应力的分析,假定在薄膜两端存在大小相等、方向相反(指向桥中心)的力使薄膜呈拉应力。此时,拉曼谱峰值的频移与应力的关系可以表达为Δω =σ(K11+2 K12)(S11+2 S12)/3ω0代入参量得Δω =-1.6(cm-1GPa-1)σ,即σ=-0.63(cmGPa)Δω (1)其中σ是多晶硅薄膜的残余应力,单位为GPa;Δω是多晶硅薄膜拉曼峰值的频移单位为cm-1。3. 应力的拉曼表征桥式多晶硅薄膜梁沿长度方向的拉曼光谱峰值频移情况如图3所示。无应力多晶硅拉曼谱峰的标准波数是520 cm-1,从图3可以看出,当拉曼光谱的测量点从薄膜的两端向中间靠拢时,多晶硅的峰值波数将沿图中箭头方向移动,即当测量位置接近中部时,多晶硅薄膜的峰值波数将会逐渐达到最小。图中拉曼谱曲线采用洛伦兹函数拟合获得。通过得曲线的洛伦兹峰值的横坐标位置,就可以根据式(1)得到多晶硅薄膜的残余应力分布情况,如图4所示。由于制造过程的偏差,多晶硅薄膜的实际梁长L=213μm。图 5 多晶硅薄膜的拉曼谱峰值频移,随着应力增大,谱峰向左漂移。图 6 多晶硅薄膜的拉曼谱峰频移和残余应力分布从图6可以明显看出,多晶硅薄膜的拉曼谱峰值频移在它的长度方向上大致呈对称分布,也就是说,多晶硅薄膜的残余应力在其长度方向上呈对称分布。通过计算可知,在多晶硅薄膜的中部存在很大的拉伸残余应力(拉曼谱峰值向低波数移动),达到0.84 GPa。4. 应力的拉曼扫描成像某半导体晶圆厂家,采用奥谱天成Optosky的ATR8800型共聚焦显微拉曼光谱扫描成像仪(www.optosky.com),测试晶圆的应力分布情况,经过数据处理后,测得了整个晶圆圆盘的应力分布。图 7 奥谱天成生产的ATR8800型共聚焦显微拉曼光谱扫描成像仪,焦距为760mm,分辨率达到0.5cm-1图 8 ATR8800共聚焦显微拉曼光谱仪的工作界面图 9 ATR8800共聚焦显微拉曼光谱仪的工作界面图 10 共聚焦显微拉曼光谱扫描成像仪测得晶圆应力分布,红色的应力越大,蓝色的应力较小。5. 总结与讨论拉曼光谱具有无损、非接触、快速、表征能力强等特点,能够清晰地表征出晶圆的应力与应力分布,为半导体的生产、退火、封装、测试的工序,提供一种非常好的测量工具。奥谱天成致力于开发国际领 先的光谱分析仪器,立志成为国际一 流的光谱仪器提供商,基于特有的光机电一体化、光谱分析、云计算等技术,形成以拉曼光谱为拳头产品,光纤光谱、高光谱成像仪、地物光谱、荧光光谱、LIBS等多个领域,均跻身于世界前列,已出口到全球50多个国家。◆ 承担“海洋与渔业发展专项资金项目”(总经费4576万元);◆ 2021福建省科技小巨人科技部;◆ 刘鸿飞博士入选科技部“创新人才推进计划”;◆ 国家高新技术企业;◆ 刘鸿飞博士获评福建省高层次人才B类;◆ 主持制定《近红外地物光谱仪》国家标准;◆ 国家《拉曼光谱仪标准》起草单位;◆ 福建省《便携式拉曼光谱仪标准》评审专家单位;◆ 厦门市“双百人才计划”A类重点引进项目(最 高等级);◆ 国家海洋局重大产业化专项项目承担者;◆ “重大科学仪器专项计划”承担者。
  • 国内最大薄膜光伏研发检测中心投入使用
    河北保定天威集团透露,21日,该集团“天威薄膜光伏有限公司研发检测中心”正式投入使用,该中心也成为中国技术最先进、涵盖工艺最全面的薄膜太阳能技术研发中心之一。  据了解,天威薄膜光伏有限公司研发检测中心一期投资1.5亿元,建筑面积5000平方米 。检测中心建有一条年产能为2兆瓦的薄膜硅太阳能电池中试线,以及高效率薄膜硅太阳能电池研发实验室、新型薄膜电池及组件研发实验室、组件可靠性检测中心等实验室群。  据威薄膜光伏有限公司总经理马文学介绍,中心具备完善的研发与检测设备和优秀的技术团队,可进行高效率大面积薄膜硅太阳能电池的开发与试制生产,还可进行薄膜太阳能电池的相关基础研究和新型光伏产品研发,同时可为本企业和其他企业提供符合行业相关标准的样品试制、产品检测、检验等服务。  据悉,该中心以其最先进的技术和最全面的工艺,成为中国薄膜光伏行业规模最大的研究和服务平台。
  • “曼”谈光谱 | 熟悉又陌生的金刚石薄膜
    一提到金刚石这个词想必大家都不陌生了,今天要说的也是金刚石家族的一个成员——金刚石薄膜。什么是金刚石薄膜?金刚石薄膜是20世纪80年代中后期迅速发展的一种优良的人工制备材料。通常以甲烷、乙炔等碳氢化合物为原料,用热灯丝裂解、微波等离子体气相淀积、电子束离子束轰击镀膜等技术,在硅、碳化硅、碳化钨、氧化铝、石英、玻璃、钼、钨、钽等各种基板上反应生长而成。几乎透明的金刚石薄膜(图片来源:网络)集诸多优点于一身的金刚石薄膜,它不仅具有金刚石的硬度,还有良好的导热性、良好的从紫外到红外的光学透明性以及高度的化学稳定性。在半导体、光学、航天航空工业和大规模集成电路等领域拥有广泛的应用前景。至今为止,已在硬质切削刀具、X射线窗口材料、贵重软质物质保护涂层等应用中具有出色的表现。随着金刚石薄膜的研发需求和生产规模不断壮大,是否有一套可靠的表征方法呢?当然有!拉曼光谱用于碳材料的分析已有四十多年,时至今日也形成了很多比较完善的理论。对于不同形式的碳材料,如金刚石、石墨、富勒烯等,其拉曼光谱具有明显的特征谱线差异。此外,拉曼光谱测试是非破坏性的,对样品没有太多要求,不需要前处理过程,可以直接检测片状、固体、微粉、薄膜等各种形态的样品。金刚石薄膜的应力值是非常重要的质量指标。金刚石薄膜和基体之间热膨胀的差异以及其他效应(如点阵错配、晶粒边界的成键和薄膜生长过程中的成键变化等)导致了生长后的薄膜存在残余应力。典型可见光激光激发的拉曼光谱在1000-2000cm-1包含了金刚石薄膜的应力信息。对于较小的应力,拉曼谱图表现为偏离本征频率的一个单峰,并且谱峰会变宽。在高达140GPa的压力下,拉曼位移甚至能够偏移到1650cm-1,与此同时线宽增加了2cm-1。下图是安东帕Cora5001拉曼光谱仪检测的一张典型的非有意掺杂的金刚石薄膜的拉曼谱图。图中可以发现,除了位于1332cm-1的一阶拉曼谱线以外,也能够观测到其他很多拉曼谱峰,典型谱峰的位置和指认如表1中所示。Cora 5001系列拉曼光谱仪在金刚石材料的检测中具备很大优势:碳材料分析模式:智能分析软件中的Carbon Analysis Model可以自动进行寻峰、进行峰形拟合,再计算碳材料特征拉曼峰的信息。一级激光:金刚石材料的拉曼检测多使用532nm激发,有时也需要使用785nm激光激发,Cora5001可以做到一级激光的安全性能。自动聚焦:Cora5001 (Direct)样品仓室内配置了自动聚焦调整样品台,根据仪器自带的聚焦算法可以轻松实现聚焦,使拉曼测试变得简单便捷。双波长可选:金刚石家族的拉曼光谱与入射激光波长密切相关,多一种波长选择也许会得到不同的信息,这为信息互补提供必要条件。“双波长拉曼”每个波长都配置独立的光谱系统,只需按一下按键即可从一个波长轻松切换到另一个波长,无需额外调整样品。

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  • 柔性衬底非晶硅薄膜太阳电池的研究 求助论文

    [align=center][b]柔性衬底非晶硅薄膜太阳电池的研究陈宇华中科技大学[/b][/align]摘要:[color=#666666]随着能源问题的日益突出,近年来太阳电池光伏发电技术发展迅猛。聚合物衬底柔性薄膜太阳电池凭借其耗材少、成本低、可卷曲(柔性)、重量比功率高、轻便等特点成为当前太阳电池研究领域的热点。 聚酰亚胺(PI)膜具有耐高温等优点,被本研究选作了柔性衬底材料。针对聚合物材料光透过率普遍偏低的情况,本研究设计了“柔性衬底/Al底电极/N/I/P/TCO(透明导电薄膜)”的倒结构柔性太阳电池,并制定了相应的工艺制备方案。 PI膜在高温200℃以上存在气体释放现象,本研究提出了PI膜的预烘(prebake)工艺,以解决PI膜高温释放气体问题,并通过实验确定了最佳的预烘工艺条件。在此基础上,为了保证沉积在PI膜上的Al底电极不掉膜不脱落,本研究探索了制备高电导、良好附着性的Al底电极的工艺。 本研究通过在PECVD沉积非晶硅薄膜的过程中通入CH4来制备宽带隙a-SiC:H薄膜作为电池窗口层以提高电池的性能,研究优化了其制备工艺条件。同时研究了获得高光暗电导比(δph/δd>105)的本征非晶硅层的制备工艺以及获得高暗电导的N型非晶硅膜... [/color]更多[url=https://kns.cnki.net/kcms/detail/detail.aspx?dbcode=CMFD&dbname=CMFD2010&filename=2009228005.nh]柔性衬底非晶硅薄膜太阳电池的研究 - 中国知网 (cnki.net)[/url]

  • 谈谈薄膜真空计(2)

    现代真空应用技术的发展,涉及的应用范围越来越广泛、真空应用设备对仪器仪表的要求越来越高,特别是对测量精度、稳定性要求、以及自动控制性能要求也越来越高,这直接关系到真空设备的整体性能质量,关系到真空应用技术或应用工艺的应用效果,甚至于成功与否。在精细化工、真空冶炼、真空单晶炉、真空热处理、真空浸渍、真空冷冻干燥、真空绝缘处理、电真空器件、半导体材料生产、高特新材料、新能源设备等等行业中尤其特出。许多新设备、新工艺、新产品的开发之所以老是无法实现预想的技术指标和效果,往往就是因为真空测控仪表选型不当、其实际的测量控制精度无法达到设计要求所造成的。当然,薄膜真空计也不是没有缺点的,首先是价格高,国内一般是4-6千元,量限低的贵些;进口则1.6—2.5万元/只左右;其次,国内老式的薄膜规容易零漂,需要经常校正,要求高的经常校正。主要是技术陈旧,国内材料科学相对落后造成的,温度稳定性不好;还有一个量程跨度小,国内的不超过3个数量级。第三是国产规娇气,容易坏,有油污进去很难清洗,要用丙酮,清洗挽救13往往会报废,小量程的23会坏。所以,我们需要有一种具有国产价格、进口品质的、使用方便、经久耐用薄膜真空计。结合我国国情、学习国际先进的真空测量新技术,我们能够做得到的。分析国外的薄膜真空计与我们旧式国产产品的有什么不同呢?简单说一说,其核心技术一是陶瓷薄膜电容真空压力测量技术、二是现代智能仪表技术。首先是通过大规模厚膜电路(国内有些厂家还是20年前的007运放),将薄膜电容测量机构和传感器调理电路微型化,做在陶瓷基片上,另外,将智能仪表电路微型化,一次仪表和二次仪表合二为一,所以量程宽、精度高、体积小;(其典型代表如莱宝62x、英福康TCBG等等)。未完待续

  • 【讨论】请教个太阳能薄膜电池的问题

    各位老师,我想请教个XPS在太阳能薄膜电池方面的应用的问题现在的太阳能薄膜电池主要硅类的电池:单晶硅、多晶硅和非晶硅另外就是化合物薄膜电池如CIGS/CIS等请问XPS在上述的太阳能电池中都可以应用吗?麻烦各位老师给我讲解下谢谢了

薄膜规相关的耗材

  • TEM/SEM用纯硅薄膜窗
    TEM用纯Si薄膜窗 纯硅薄膜窗特点 纳米级厚度:薄膜厚度为5-15nm,比目前无定形碳薄膜窗口还薄,为高倍成像减少了背景干扰; 清洗:采用等离子清洗,无有机物残留,改善成像质量; 均匀性:减少了不同区域的不均匀性; 稳定性:高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, 1000℃ for nanoporous); 减少污染:彩色污染仅为C膜的一半; 纳米孔:为纳米尺寸材料提供稳定的成像,无背景干扰; Si成分:溅镀沉积、纯的Si; 最小的背景信号:可对含Ni或C样品进行元素分析; 纯硅薄膜窗规格 单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm25x25μmΦ3mm100μm30nm500x500μm纳米孔10-60nmΦ3mm100μm多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm2x1阵列,50X1500μmΦ3mm100μm9nm/15nm2x1阵列,100X1500μmΦ3mm100μm5nm2x1阵列,100X100μmΦ3mm200μm9nm/15nm2x1阵列,100X1500μmΦ3mm200μm5nm3x3阵列,8个窗口50X50μm,1个窗口50X100μmΦ3mm100μm5nm/9nm3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μmΦ3mm100μm9nm3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μmΦ3mm200μm15nm3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μmΦ3mm100μm30nm3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μm;纳米孔10-60nmΦ3mm100μm15nm3x3阵列,窗口100X100μmΦ3mm200μm详细资料请咨询:021-35359028/admin@instsun.com
  • 薄膜分光镜
    薄膜分光镜Pellicle Beamsplitters第二表面反射不产生鬼像汇聚光束无色差光程长度无变化薄膜厚度 0.002mm通用规格基底:Nitrocellulose构造 :PellicleHousing:Black Anodized Aluminum折射率 nd:1.5表面质量:40-20薄膜分光器是非常纤薄的硝化纤维薄膜,胶合到重叠的铝质外框上,其特点是第二表面反射不产生鬼影。为方便系统集成,薄膜分光器在外框的反面提供安装孔。薄膜分光镜可抵御机械冲击或气候变化,但必须保护其不受灰尘和液体飞溅的影响,以免对薄膜造成损坏。备注:在处理时须额外小心。产品信息Dia. (mm)反射/透射比(R/T)波长范围(nm)DWL(nm)产品编码34.9033/67400 - 700-#39-48034.9040/40400 - 700-#39-47934.9050/50-632.8#39-48134.908/92400 - 2200-#39-47863.5033/67400 - 700-#39-48463.5040/40400 - 700-#39-48363.5050/50-632.8#39-48563.508/92400 - 2200-#39-48288.9033/67400 - 700-#39-48888.9040/40400 - 700-#39-48788.9050/50-632.8#39-48988.908/92400 - 2200-#39-486114.3033/67400 - 700-#39-492114.3040/40400 - 700-#39-491114.3050/50-632.8#39-493114.308/92400 - 2200-#39-490165.1033/67400 - 700-#39-500165.1040/40400 - 700-#39-499165.1050/50-632.8#39-501165.108/92400 - 2200-#39-498技术数据
  • 样品薄膜、光谱仪耗材薄膜-3025#
    质量保证正品、XRF样品薄膜、Chemplex、X射线荧光光谱仪、X射线荧光膜、土壤样品杯膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜--美国Chemplex-3025#现货供应:XRF样品膜、XRF薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO:106、CAT.NO:150、CAT.NO:250、CAT.NO:256、CAT.NO:257、CAT.NO:416、CAT.NO:426、CAT.NO:3014样品膜、Sample Film。XRF样品薄膜,又名X射线荧光光谱仪样品薄膜,薄膜样本支撑窗,XRF样本薄膜,XRF样品膜,X-ray样品薄膜,ROHS检测专用薄膜,迈拉膜、麦拉膜、 RoHS/WEEE优质拉伸膜,是应用于X荧光光谱仪的用于保留液体、粉末、泥浆或固体样本在XRF样本杯内的物质。品名:XRF样品膜Sample Film目录编号CAT. NO:3025产品信息:Etnom® ,厚度3.0μm,直径63.5mm,100片/盒品牌:美国Chemplex Industries.Inc.(原装进口)货期:现货起订量:1盒以上。 有方形托架的圆片:3025 Etnom® 3.0 μ 0.00012” 0.12mil 0.00305 mm 2.5”(63.5mm) 100片
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