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全自动电位滴定仪分析气相二氧化硅中硅羟基的含量

检测样品 半导体材料

检测项目 气相二氧化硅中硅羟基的含量

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介绍 气相二氧化硅(气相白炭黑)是极其重要的高科技超微细无机新材料之一,具有多孔性,耐高温,无毒无味无污染,广泛应用于医药、化工、食品等领域,硅羟基含量是其产品性能的一个重要指标。本实验采用氢氧化钠滴定法,通过JH-T5全自动滴定并在分析结束后自动计算出样品的表面羟基含量。

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介绍气相二氧化硅(气相白炭黑)是极其重要的高科技超微细无机新材料之一,具有多孔性,耐高温,无毒无味无污染,广泛应用于医药、化工、食品等领域,硅羟基含量是其产品性能的一个重要指标。本实验采用氢氧化钠滴定法,通过JH-T5全自动滴定并在分析结束后自动计算出样品的表面羟基含量。精品仪器领航未来 全自动电位滴定仪分析气相二氧化硅中硅羟基的含量 一、介绍 气相二氧化硅(气相白炭黑)是极其重要的高科技超微细无机新材料之一,具有多孔性,耐高温,无毒无味无污染,广泛应用于医药、化工、食品等领域,硅羟基含量是其产品性能的一个重要指标。本实验采用氢氧化钠滴定法,通过 JH-T5全自动滴定并在分析结束后自动计算出样品的表面羟基含量。 二、仪器与配件 JH-T5全自动电位滴定仪,滴定搅拌台, PH复合电极 PH-101, 100mL滴定杯,电子天平(精确到0.1mg)烧杯、量筒、容量瓶等。 三、试剂 滴定剂:0.0803mol/L 氢氧化钠标准溶液,样品:气相二氧化硅,溶剂:乙醇,20%氯化钠溶液,盐酸:0.1mol/L。 四、实验方法与步骤 1.首先配置氢氧化钠滴定剂,称取 4.0g氢氧化钠溶于 1000mL纯水中,然后用邻苯二甲酸氢钾对滴定剂进行标定。 2.称取约1.0g样品于滴定杯中,加入 12.5mL 无水乙醇和 37.5mL20%氯化钠溶液,搅拌均匀,用 0.1 mol/L 的盐酸调节溶液 PH到4,设置好仪器滴定方法及计算公式,用标定好的滴定剂进行滴定分析,在分析结束后得到结果。 五、实验条件 样品来源:客户提供 环境湿度:55% 环境温度:25℃ 六、实验数据 样品名称 气相二氧化硅 测定次序 进样量 终点体积 含量结果 1 1.1120 4.7177mL 1.3670 个/m2 2 0.9823 4.5169mL 1.4819个/m2 3 0.9808 4.7169mL 1.5499 个/m2 分析时长:约3min 平均值:1.4663个/m2 图谱: 样品测定 结果计算公式: N=V*C*602/BET*m 式中:V:滴定终点体积(ml) C:滴定剂浓度 (mmol/mL) m:样品量(g) 单位换算系数测量结束仪器会自动计算结果并显示在屏幕上 地址:上海市嘉松北路B栋上海佳航仪器仪表有限公司电话:

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上海佳航仪器仪表有限公司为您提供《全自动电位滴定仪分析气相二氧化硅中硅羟基的含量》,该方案主要用于半导体材料中气相二氧化硅中硅羟基的含量检测,参考标准《暂无》,《全自动电位滴定仪分析气相二氧化硅中硅羟基的含量》用到的仪器有上海佳航仪器全自动电位滴定仪JH-T7、佳航仪器全自动电位滴定仪JH-T8、上海佳航 全自动电位滴定仪 JH-T5。

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