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等离子清洗机在半导体、电子材料干式清洗中的应用越来越广泛，如硅胶片的光刻胶剥离、除去有机膜、界面活性化、微细研磨、除去碳化膜等领域，等离子产品都发挥了积极的作用。
从研究开发到工艺生产使用，从表面微细加工到表面处理改质，等离子设备有着很广的社会应用需求。在多个领域也都有普遍应用。
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等离子清洗机的八大应用等离子清洗机在半导体、电子材料干式清洗中的应用越来越广泛，如硅胶片的光刻胶剥离、除去有机膜、界面活性化、微细研磨、除去碳化膜等领域，等离子产品都发挥了积极的作用。 从研究开发到工艺生产使用，从表面微细加工到表面处理改质，等离子设备有着很广的社会应用需求。在多个领域也都有普遍应用。 1、半导体相关：晶圆光阻附着力的提高;晶圆光阻的去除(灰化);晶圆光阻残留物去除；MEMS叠加强度的提高LED。2、光学相关：镜片粘连、除雾；涂装前处理；眼镜镜片涂装前处理；隐形眼镜亲水性提高。3、生物、医用相关：微芯片强度提高；微芯片流道亲水性提高；导管、导管针粘连强度提高。4、低温灰化：石棉分析前处理；设备分析用前处理。5、FPD相关：液晶屏粘合强度提高；保护、偏光板附着力提高等。6、IC/LED组装相关：基板电极部引线键合强度提高；芯片叠合（芯片粘连）粘连性提高；基板封装（成型粘）连性提供；树脂底部通孔残留物的去除（胶渣）。7、新材料：高分子材料粘合强度提高；高分子材料涂装前处理；粉体样品粘合、形成前处理。8、机电一体化：液晶屏粘合强度提高，保护、偏光板附着力提高等。 关于等离子清洗机的应用就介绍到这里了，想了解更多相关资讯请继续关注本网站。
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产品配置单
浚和(上海)仪器科技有限公司为您提供《等离子清洗机的八大应用》，该方案主要用于化药制剂中前处理检测，参考标准《暂无》，《等离子清洗机的八大应用》用到的仪器有YAMATO等离子清洗机PR500、马弗炉YAMATO雅马拓实验室仪器马弗炉FO系列、恒温箱YAMATO送风定温恒温箱DNF410C、真空泵日本Kashiyama新款干式真空泵NeoDry-G。
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