聚合物、玻璃和硅上的薄膜图案化

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透明导电膜(TCFs)广泛应用于现代电子设备中。当沉积在玻璃、硅或聚合物衬底上时,这些薄的导电膜可以携带电能。TCF被用作OLED和太阳能电池的电极,或者简单地用作你喜欢的手机触摸屏上的导电层。

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聚合物、玻璃和硅上的薄膜图案化透明导电膜(TCFs)广泛应用于现代电子设备中。当沉积在玻璃、硅或聚合物衬底上时,这些薄的导电膜可以携带电能。TCF被用作OLED和太阳能电池的电极,或者简单地用作你喜欢的手机触摸屏上的导电层。图1:透明导电膜是所有触摸屏技术的基础在TCF家族中,氧化铟锡(ITO)因其优异的透明度和电学性能而成为行业标准。最近的材料,如氧化石墨烯(GO)或PEDOT,显示出对柔性电子器件的巨大前景,因为它们比ITO更容易弯曲。透明导电膜的图案化这些导电层的图案化是一个非常重要的制造过程,它允许去除层的一些部分,以使表面电学性质功能化,并根据应用在层上创建电路。与光刻相比,激光图案化是一种很有前途的方法,因为它提供了以非常高的吞吐量定制图案化的灵活性,同时消除了耗材和预处理步骤的使用。当涉及到TCF的激光图案化时,挑战之一是在不影响下面的衬底(玻璃、聚合物、硅等)的情况下选择性地去除薄膜的能力。如图2所示,根据沉积工艺或应用,也可以优选去除基板上方的TCF层(前处理)或通过基板(后处理)。图2:TCF激光图案化的两种方法:正面和背面处理薄膜的中红外选择性激光图案化为了克服这些挑战,Femtum开发了一种2.8µm的新型中红外脉冲光纤激光器,用于选择性去除不同衬底上的透明导电膜。中红外脉冲激光器是薄膜图案化的理想选择,因为大多数导电薄膜都是基于在3µm左右的波长下能强烈吸收的氧化物材料。与UV或近IR激光图案化相比,在不影响衬底的情况下更容易选择性地去除这些薄层,衬底在这些中IR波长下具有高得多的烧蚀阈值。图3显示了使用Femtum Nano 2800在PET上使用正面和背面处理方法进行ITO图案化的示例。图3:使用Femtum Nano 2800光纤激光器在PET上进行ITO处理。前处理和后处理对PET基材没有任何损坏。由于Femtum Nano 2800具有好的光束质量,还可以实现小特征尺寸(约10µm)的精确图案化,如图4所示。图4:特征尺寸为12微米的PET上ITO的精确图案化使用这种多功能的交钥匙工业光纤激光器,能够在各种基板上处理TCF,如柔性聚合物(PET、PMMA、聚酰亚胺等)或其他中红外透明基板(硅、锗),开辟了从柔性显示器到可穿戴传感器的广泛应用。

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天津瑞利光电科技有限公司为您提供《聚合物、玻璃和硅上的薄膜图案化》,该方案主要用于电子元器件产品中物理性质检测,参考标准《暂无》,《聚合物、玻璃和硅上的薄膜图案化》用到的仪器有光纤激光器Femtum Nano 2800-天津瑞利-FEMTUM。

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