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【求助】ICP-MS可以测硅片表面金属的含量吗?

ICP-MS

  • rtrtrtrtrt
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  • tcduan

    第1楼2008/06/02

    激光烧蚀或者表面化学浸提

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  • lizhongxi8

    第2楼2008/06/02

    可以测定,但要选择适当的样品预处理方法.

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  • chauchylan

    第3楼2008/06/02

    这应属于表面分析的范畴吧....

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  • kiwi-kids

    第4楼2008/06/03

    VPD技术好像需要特别的配置

    tcduan 发表:激光烧蚀或者表面化学浸提

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  • chauchylan

    第5楼2008/06/03

    表面化学浸提是指表面化学萃取吗???

    tcduan 发表:激光烧蚀或者表面化学浸提

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  • 风起云飘舞

    第6楼2008/06/06

    好像看到过一这样的文章,但是全是英文,很困难的阅读完,发现内容很空洞,没什么实践价值,只是说了一些人所共知的套话。大体上说可以测,具体方案可以咨询仪器厂家 的应用专家。

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  • kiwi-kids

    第7楼2008/06/07

    这个可以参考SEMI的方法,石墨炉原吸或者ICPMS测定硅片表面元素沾污

    仪器公司的文献更侧重于如何调整仪器以及具体的实验数据

    zhckj 发表:好像看到过一这样的文章,但是全是英文,很困难的阅读完,发现内容很空洞,没什么实践价值,只是说了一些人所共知的套话。大体上说可以测,具体方案可以咨询仪器厂家 的应用专家。

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  • nps

    第8楼2008/06/09

    是的,SEMI有这么一个标准方法...

    zhengxxx 发表:这个可以参考SEMI的方法,石墨炉原吸或者ICPMS测定硅片表面元素沾污

    仪器公司的文献更侧重于如何调整仪器以及具体的实验数据

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  • zhangzhoumin

    第9楼2008/06/19

    当然可以了,如果你需要可以和我联系邮箱ZXMLYK@SINA.COM

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  • nps

    第10楼2008/06/28

    补充下:标准号留下 SEMI MF1724-1104

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