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【求助】ICP-MS测试6N级硅片

ICP-MS

  • 同样的硅片,处理后测试结果会相差几十ppb,折算后大概相差4个ppm,同样SIMS测试结果就很稳定?请问各位这是什么原因呢?
    还有想问下各位,要求得到硅片整体纯度,哪种处理方法更好一些?
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  • nps

    第1楼2009/01/11

    不知道楼主测的是硅片表面杂质还是硅片的基体杂质...如果是表面杂质，有可能是：
    1、样品处理前没有对硅片表面进行清洗；
    2、测试时溶液中基体浓度不一样；
    3、实验室环境及操作的影响；
    暂时想到这几点...

    frank982 发表:同样的硅片,处理后测试结果会相差几十ppb,折算后大概相差4个ppm,同样SIMS测试结果就很稳定?请问各位这是什么原因呢?
    还有想问下各位,要求得到硅片整体纯度,哪种处理方法更好一些?

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  • frank982

    第2楼2009/01/11

    硅片基体的杂质，分析纯度用的哦。环境为千级净化间，验收过了。前清洗是别人做的，不知道是否对清洗硅片用试剂有何要求？GR试剂清洗后用超纯水浸泡过夜可以么

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  • nps

    第3楼2009/01/11

    不知道用的什么清洗剂？TMAH？

    frank982 发表:硅片基体的杂质，分析纯度用的哦。环境为千级净化间，验收过了。前清洗是别人做的，不知道是否对清洗硅片用试剂有何要求？GR试剂清洗后用超纯水浸泡过夜可以么

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  • 风起云飘舞

    第4楼2009/01/12

    用超纯的清洗、溶样再看，

    frank982 发表:硅片基体的杂质，分析纯度用的哦。环境为千级净化间，验收过了。前清洗是别人做的，不知道是否对清洗硅片用试剂有何要求？GR试剂清洗后用超纯水浸泡过夜可以么

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  • frank982

    第5楼2009/02/14

    溶样用的是PTFE烧杯,感觉做完以后方法空白比较大,是不是这个原因?

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  • frank982

    第6楼2009/02/14

    用国内电子级酸来浸泡,然后用密理博的超纯水反复清洗,最后才进行溶样实验

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