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Ni锥用2%HNO3洗后,已用DI水彻底清洗,但再做样,发现Ni背景特高,且Ni强度时高时低,应如何处理?

  • LINLINGYING
    2005/07/06
  • 私聊

ICP-MS

  • Ni锥用2%HNO3洗后,已用DI水彻底清洗,但再做样,发现Ni背景特高,且Ni强度时高时低,应如何处理?
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  • 第1楼2005/07/07

    你一套锥用了多长时间了?

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  • 第2楼2005/07/07

    才用了一周,而且是第一次清洗.

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  • 第3楼2005/08/05

    请问NI的空白记数有多少? 是不是进样系统污染了? 停下蠕动泵看一下.

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  • 第4楼2005/08/12

    Ni在MS中的干扰有Fe,CaO,ArO我在想这些东西会不会有影响

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