XPS及其它能谱仪
七月冰
第1楼2009/11/12
你做的是SiC膜吗?我经常做体材料。也曾经做过表面氧化试验。我觉得首先,你对溅射速率的估计是没有什么根据的,应该重新标定一下,毕竟SiC跟SiO2差了很远。另外,一般情况下表面吸附是很容易去除的,不会扩散到那么深。所以还是考虑一下制备工艺。我不清楚你为什么用AES测试,如果只是因为深度剖析,xps也可以做到,而且带有价态信息,很容易就能区分表面吸附。欢迎继续交流。
yuansu123456
第2楼2009/11/12
恩,可能keshi 速度不准,另外你的SiC涂层是指SiC粉末涂在物体上面吧?层中有空隙,含有污染的C O等杂质,所以难以去除
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