第10楼2005/09/27
各位不好意思,昨天由于时间原因没能把上边的几种观察方法和大家说清楚,现在补上:
微分干涉观察法是将用明场观察法可能观察不到的式样高度微小差异通过改善对比法变为立体或三维图象的显微观察技术.照明光由微分干涉对比棱镜变为两束衍射光,这两束衍射光使式样高度差异造成在光路上的微小差异.而光路差异变为利用微分干涉对比棱镜和检验偏振器的明暗对比.在利用敏感色板,加强了高度差异的颜色变化.
适用于检测包括金相结构、矿物、磁头、硬磁盘表面和晶片精制表面等有极其微细高度差异的式样。
偏振光观察法:是使用由两个一组的滤色镜(检偏振器和起偏振器)形成偏光的显微观察技术。这些偏光始终保持相互垂直。一些式样在两个滤色镜之间呈鲜明的对比,或根据双折射性能和定向(即:锌结构的抛光式样)呈现颜色。在偏振器插在目镜前的观察光路时,起偏振器位于垂直照明前的光路。
适用于观察金相结构(既球墨铸铁的石墨增长形态)矿物和液晶(LCD)以及半导体材料。
荧光观察法:本技术用于发出荧光的式样
适合利用荧光法检测晶片的污染,感光性树脂的残留物,以及检测裂缝。
以上,如有不对望指正,谢谢!