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【求助】分析電子元件中的鉛鎘？

hk847

2010/05/25

RoHS/WEEE指令

我看到2008年版的電子元件中的鉛鎘檢量線所要添加的溶液。其中這段
－微波消解标准
校准空白：92 mL 10%（m/m）HCl（10.3.e）和8 mL HBF4 50%（m/m）（10.3.j）
的混合液。
校准溶液1 至3（每种100 mL）：溶液含有1500 mg/L Fe 和1500 mg/L Cu，24
mL HCl（10.3.b），8 mL HBF4 50%（m/m）（10.3.j）及不同浓度Pb 和Cd。
在溶液中目标元素1.2 μg/mL 相当于在电子装置中目标元素100 μg/g。

我實在是不懂他的意思，是只說校準溶液只要三點嗎？還有『溶液中要含有1500 mg/L Fe 和1500 mg/L Cu，24
mL HCl（10.3.b），8 mL HBF4 50%（m/m）』這句話又是什麼意思？那我又要添加多少毫升的鐵跟銅？

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无名

第1楼2010/06/17

Fe和Cu是作为背景干扰离子存在，因此可以用事先配置好的干扰离子溶液作为稀释剂进行样品或者校准溶液的配置。

1

hwp9000

第2楼2010/06/24

ROHS测试

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