【求助】EBSD中的背景问题

扣背底要在较低的倍数下完成，扣背底就是扣除分析区域周围的噪音影响，故此不能在太高倍数下操作。一般扣背底的倍数放大至要分析样品的整个表面在接近SEM图像全貌的倍数。不知道你的倍数有多高？从情形看你的样品晶粒尺寸不小，才会有这种高被下背底重影。

此外，标定花样前需要精细校正，否则容易误标。EBSP的标定分辨率不高，空间分辨率不高，与SEM的背散射电子信号分辨率一致（约5nm~2um），且钨灯丝和场发射的也有差别；花样识别的角分辨率在0.5~2°，其实一般都大于1°的。

低倍和高倍下，我都取过背景，但是结果没有很大区别，也不知道是为什么？我的合金和Al-4.5%Cu铸造合金，晶粒尺寸是有些大。那请问在这种情况下，该怎样才能消除这种背景的影响，而最后的菊池花样不出现重叠呢？谢谢。

有几个参数可以考虑调整试试，工作距离WD，加速电压，光阑大小，尤其是探头距离。

加速电压是20kv，工作距离WD是20，spot size 是60， 探头距离是175.这些值都是电镜老师还有技术人员设定的，貌似也是比较好的参数。想请问一下，这里面的哪个值需要调整，还请告知，谢谢。