【讨论】断面SEM 清洗与否会产生这么大区别？

样品是Si衬底上长CrSi膜。。没洗的树状晶个人认为是结晶后的Si。。（经过RTA 1200度 5分钟）。。不解的是清洗后怎么变这样了。。。没洗的那条亮线也不知何解

用什么清洗的？

丙酮

不好意思﹐先確認一下﹐制樣方式是不是切片.
一﹑未清洗前表面可能有細微顆粒或雜質.經過清洗后表面細微顆粒或雜質都沒以﹐所以圖片表面形貌會有所差別.
從圖片上也可以看的到﹐洗清后表面確認是有少很多顆粒.
二﹑下面樓主有提到是用丙酮清洗的﹐丙酮實際上會產生輕微的蝕刻.所以清洗后的表面形貌感覺更清晰些.
三﹑至于測試數據.3.91 與3.87并沒有本質上的差別﹐這可能是由于測試人員誤差造成的.有實際測試過的人可能會
發現﹐這個測量也不是百分百的﹐有一點差別也是很正常的.

以上個人看法﹐歡迎拍磚

傲剑小冰(zwybb) 发表:
这张是没有清洗的

这张是清洗后的。。。小生不解，为何会有这等区别

另外針對亮條﹐樓主是否可以說清楚他的具體位置。其實有可以是樣品放電造成的.

...就是不清楚那个亮条纹是什么。。。其他的数据显示有结晶硅的产生，而且是严格的晶粒取向，沿着衬底的晶向生长。如果是未清洗的样品 那上面的柱状晶正好可以做此解释，反倒是洗过的到不好说了。。。样品室拿金刚刀切的，整个样品有0.4mm厚（衬底），膜的厚度几个um且在表面，切片的话应该不至于产生很大的影响吧。。。另外上面的那层我认为是非晶成分，这也与XRD数据吻合。。。只是很不明白那个亮线，从图中可以看到是很平整的一条线。。我以前想是不是非晶跟结晶区放电不一样导致的。。但是这么整齐的线就难以解释了