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【求助】ICP-MS测三氯氢硅硼含量超高，比别地厂家测的高好多！！

ICP-MS

  • 我们公司刚买了一台安捷伦的ICP-MS7700S，测定三氯氢硅中的微量金属杂质，练习测一个三氯氢硅样品时，测试中发现空白中B含量在0.7-1PPb左右，样品测出来有十几个PPb，但是同一个样品我们送到别的厂家测试B在扣完空白后有0.7个PPb左右，用的器皿全部为PFA材质的，不明白为什么会相差那么大，空白也不算高呀！为啥样品测试同一个样品我们和别的厂家的测试差别这么大！！！不知道B的污染从何而来！！！
    测试方法都是一样的！！！
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    +关注 私聊

  • kiwi-kids

    第1楼2011/06/27

    关键看看样品处理的差别

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  • abcdefghijkl123

    第2楼2011/06/27

    硼有较强的记忆效应的

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  • abcdefghijkl123

    第3楼2011/06/27

    测定之前，雾化室要用氨液浸泡的

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  • whadduo

    第4楼2011/06/29

    看一下样品处理过程中有污染没。

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  • 金水楼台先得月

    第5楼2011/06/30

    B不太好做.

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  • popo

    第6楼2011/07/01

    挥发做的？
    是不是还没有控制好啊

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  • 以质谱优

    第7楼2011/07/01

    呵呵，关注下四氟纯度

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  • 光哥

    第8楼2011/07/06

    应助工程师

    感觉这个空白不低吧？？ 700ppt了，曾经听说其他的硼才几十一百多的ppt的空白的。查查环境或者试剂、水等方面的问题吧。
    估计是环境不好导致的。

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  • abcdefghijkl123

    第9楼2011/07/09

    走0。1moL/L的氨水，还是挺好做的

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  • liaoxiaozi

    第10楼2011/08/17

    为什么用氨水

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