直读光谱仪中有使用氩-氢气混合气体的吗？

氢原子外层只有一个电子，属于易电离的原子吧。在高能放电情况下肯定会电离出电子。高硅的铸铁样品熔点高，比较不易于激发放电，是不是氢电离的电子云能引导到高硅铸铁的电离激发呢？

好像不是这样解释的
可能的原因是加入的氢有助于去除样品中释放的氧，或者是减少表面氧化物的形成，总之，加入的氢有利于浓缩放电，所以测量高硅钢铁样品有优势。但对于镁合金、钛合金等，反而会形成氢化物，不利于激发，所以，混入氢气的方法只适用于黑色金属

我是在国外的文献上看到这样描述的，不知道国内有没有人做过这样的研究实验，是不是果真如此呢？

得有一套测量控制气的混和比的装置吧,如果真能用于现实的分析应该说可以提高铸铁样品的分析准确性

可以研究研究。很好的课题。

自己弄一套控制气体混合的装置太复杂了，不知道能不能像WDXRF用到的P-10气体那样，直接从气体生产厂家购买氩-氢气的混合气体

如果谁有条件做下这个实验，研究研究还是挺不错的

这个还没有见过

有没有介绍硅含量多高适宜采用这种方法？

现场对氢气的管理很严格，自己混合不太容易进行试验啊

这个没法定量判断区分的吧，一般Si含量1.5%以上的铸铁就不太好激发的