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ICS-5000+ 雜訊以及安培池侵蝕問題

alsoty

2018/02/09

离子色谱（IC）

大家好，又來發問了。
前幾天清洗pump後，也換上新的參比電極，
跑std的時候，發現低濃度時候雜訊很高，已經排除了是否是氣泡問題。

而且signal也很低，於是把工作電極拆下來打磨了，打磨後如圖二，很美的線

但才隔一天而已，又開始出現雜訊，如圖三

由於還有樣本要跑，目前是繼續這樣跑樣本下去，但樣本中穿插來確認儀器狀況的std仍是有雜訊的。如圖四

請問這樣我應該從哪邊下手去思考呢？
另外就是，工作電極跟檢測器之間總是會漏液，無論我有沒有換新的電極墊片都是...
Cell Body已經被NaOH侵蝕了...這樣會影響嗎？如下圖

再麻煩各位替我解答了...

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恐龙

第1楼2018/02/11

清洗安培池的接触部分。这种噪音大多情况下，是靠长时间平衡才会好。
工作电极和检测池之间不应该漏，有可能是卡扣有点问题。

1

alsoty

第2楼2018/02/12

感謝前輩的回復，確實在一天之後就平衡了，
工作電極和檢測池這部分，之前工程師說可能是我們的沖洗液濃度太高造成，總是跟我們說換一片薄膜墊片就好，但一直無解，
感謝前輩提點了卡扣這個部分，我會再去問問工程師，謝謝您 :D
恐龙(konglong) 发表:清洗安培池的接触部分。这种噪音大多情况下，是靠长时间平衡才会好。
工作电极和检测池之间不应该漏，有可能是卡扣有点问题。

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