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【求助】XPS图谱中污染元素的来源?

XPS及其它能谱仪

  • 我用离子束溅射制备的纳米薄膜,实验室确实没有用到F元素,而我的XPS图谱中,在结合能为688附近有个小峰,这个是不是F元素的峰啊?如果是他是从哪来的?如果不是,可能是什么的峰呢?请大家帮帮忙!
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  • iamu0

    第1楼2007/04/19

    很有嫌疑是F的峰, 怎么被污染的只有自己找原因了

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  • 可人

    第2楼2007/04/19

    谢了!你知道在做分峰时怎么扣除背底吗?高斯洛仑兹比怎么选择?最高结合能和最低结合能怎么选择啊?好多问题,呵呵,初学见笑了!

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  • tnt3548639

    第3楼2007/04/20

    688一般来说应该就是F,这么有的只有你知道,那你的样品中有哪些元素,用的是什么靶,考虑一下是不是有可能是俄歇普?

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  • 可人

    第4楼2007/04/21

    我用的是钴靶和铝靶,元素中只能有硅和前面的两种元素,同时加入了氧气,形成氧化铝,氩气保护。但是却没有氩的峰啊,试验中根本没有氟的加入,
    里面Al的峰在窄扫描时没有看到,他的峰强度远比F的高啊,不知道是什么原因啊

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  • adomslion

    第5楼2007/04/25

    会不会是你的荷电效应太厉害了,把别的峰给移到这F的位置上来了啊?

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  • 可人

    第6楼2007/04/25

    要是这样的话,我就不太清楚了
    我只是做了这个实验,要结果来解释实际的问题,而不是做XPS的专业人员,只能学到这里,在深我就不能理解了

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  • 可人

    第7楼2007/04/25

    要是这样的话,我就不太清楚了
    我只是做了这个实验,要结果来解释实际的问题,而不是做XPS的专业人员,只能学到这里,在深我就不能理解了

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  • iamjingyan

    第8楼2008/07/31

    可能是其他原因,对比一下实验条件。

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