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【实战宝典】硅片需要进行哪些分析？

小官人-闭关修炼中

2022/07/05

问题描述：硅片需要进行哪些分析？
解答：
控制硅基半导体器件中的杂质含量是至关重要的，因为即使是超痕量的杂质（包括碱和碱土元素、过渡金属）都可能会导致器件发生缺陷，如击穿电压或高暗电流。常规分析的硅主要有两种类型：硅片表面和体硅。硅片表面的分析最常用的方法是化学气相分解（VPD），包括使用极少量的酸（通常是HF）滴一滴在表面收集晶圆表面上的杂质。这样得到的样品体积通常约为200μL。对于体硅的分析，一般使用非常强的氢氟酸（HF）将硅完全消解。

以上内容来自仪器信息网《ICP-MS实战宝典》

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