我们是耐氢氟酸的进样系统,样品先硝酸盐酸微波消解,冷却后再加的氢氟酸,之前查资料有看到温度过高SiF4挥发导致结果偏低,实际我们做的时候也有注意控制温度了,还有什么其他办法防止SiF4的挥发呢?
ztyzb(zxz19900120) 发表:1、消解时HF与Si反应后生成SiF4很容易在消解体系中溢出而使Si元素损失;
2、而进样系统大部分都是石英部件当测试溶液(可能含有微量的HF)经过这些玻璃部件时会对石英部件有腐蚀作用从而又使测试溶液额外引入了Si元素。
楼主,可能导致硅元素损失或者增加因素如上,您出现这种情况主要是第1点引起的