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高Cr (33-37%),高硅(4-5%)材料的溶解方法

  • Ins_8f9d1ace
    2023/12/13
  • 私聊

ICP光谱

  • 高Cr (33-37%),高硅(4-5%)材料,我的溶解方法是先用王水溶解,在加热板上加热150-180℃,反应25分钟,拿下冷却至80℃以下,加入2ml氢氟酸,2分钟后定容。反应25分钟时,还有粉末未溶解,加入氢氟酸后,依然未溶解。需要测硅,加入氢氟酸温度高于80℃,氟化硅会挥发。请假一下大家,有好的溶解方法吗?最好是使用电热板加热的方法(没有消解器)
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  • 小黄同学

    第1楼2023/12/22

    氢氟酸做Si就是不好控制,需要长期积累经验,我的经验是加氢氟酸前,(戴手套)手触聚四氟乙烯烧杯外壁,感觉到烧杯外壁仍有余温,但不烫,即可加入氢氟酸,关闭电炉2分钟,再利用电炉余温继续加热至样品完全溶解即可

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  • 小黄同学

    第2楼2023/12/22

    关闭电炉的时间还要根据关炉子前电炉的温度和环境温度这些,所以需要长期积累。为避免损失,你可以尝试吹完壁摇匀后(溶液温度已经降低)直接加入HF,看一下测试结果,个人觉得如果消解液体积不大的话,你吹水的体积足以让它降温到Si不会跑的温度

    小黄同学(Insm_6743279c) 发表:氢氟酸做Si就是不好控制,需要长期积累经验,我的经验是加氢氟酸前,(戴手套)手触聚四氟乙烯烧杯外壁,感觉到烧杯外壁仍有余温,但不烫,即可加入氢氟酸,关闭电炉2分钟,再利用电炉余温继续加热至样品完全溶解即可

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