仪器信息网APP
选仪器、听讲座、看资讯

QTRAP 5500操作及维护保养标准操作

  • zhangyongmei
    2024/09/18
  • 私聊

液质联用(LCMS)

  • 1.开关机操作步骤

    1.1 开机

    开机的时候首先确保氮气,稳压电源是开机,且状态正常。按下图连接好各线路,打开真空泵的电源开关,然后打开质谱侧面的电源开关,仪器进行启动并抽真空。



    激活一个硬件方法,如下图,点击Analyst界面右下角图标,弹出Mass Spec QTRAP5500 Detailed Status界面,等待抽真空至真空度达到1.0×10e5tor(2.0×10e5tor)以下时,仪器开机成功。在建立新方法的时候,建议将质谱的真空状态、柱子的初始压力等作为参照对比。



    1.2 关机

    当遇到停电、换源时或其他需要时,需要关机,必须按下述操作。

    首先,在Analyst软件的hardware configuration处,将硬件方法灭活,如下图。确定好硬件方法灭活,按住质谱侧面黑色“vent”键5秒,机器将会进行放真空,质谱仪正面的真空显示灯“”快速闪烁,等待20min左右(7-8min左右分子涡轮泵停止,15min左右仪器卸真空完成),真空显示灯会不亮,ready灯“”会慢速闪烁,此时表示真空已经放好了,可以将质谱侧面power键关掉。把机械泵电源关上。



    1.3 重启(未经工程师允许,请勿使用)

    当机器死机或者需要重新启动时,按住质谱侧面红色“reset”键5秒,松开,机器重启。

    1.4 常规操作

    当仪器开机完后,需要对仪器进行校正,校正需要使用TurboV常规源(ESI源),ESI源自己会带电,使用时不需要电晕针,将电晕针朝外,APCI源需要电晕针放电,将电晕针垂直指向气帘板锥孔额位置。

    质谱操作一般流程为:

    激活硬件→手动调试→新建project→编辑方法→编辑batch→查看文件

    1.4.1 激活硬件

    开机成功后,打开Analyst软件,双击导航栏hardware configuration,如果已有硬件方法,可以直接点击active profile激活硬件;如果需要新建硬件,可以点击New Profile,如下图。



    在Profile name处填写好硬件方法的名字,点击Add device,弹出Available device界面选择相对应的质谱和液相。一般来说,质谱选QTRAP5500,液相根据情况而定。建好,直接激活就行了。

    1.4.2 手动调试

    硬件激活后,或者想观察喷雾状态,都可以进行自动调试。双击导航栏manual tuning,进行调试的界面。

    1.4.3 新建Project

    对于每个不同的项目,都需要新建一个project;对于相同的项目,可以打开已有的Project进行编辑。

    新建project:在点击菜单栏处的tools→project→create new project,设置好名称,点击ok。

    打开已有project:在菜单栏出的图标处,下拉菜单,选中相应的project即可。此后的操作,都在一个project的文件夹下进行。



    1.4.4 编辑方法

    对于一个方法,可以打开一个原有的方法进行编辑,也可以新建一个方法。打开一个方法,单击导航栏的Acquire,在菜单栏单击打开键,选择需要编辑的方法,打开;新建一个方法双击导航栏的Built acquisition method,弹出下图方法编辑区。



    首先在方法编辑区,点击左边导航栏acquisition method,选择右面LC sync项(如上图),表示质液同步。对于质谱方法的编辑(如下图), 1.选择扫描类型,如MRM,EMS,EPI。2.填写质荷比信息。3.填写源气参数,源气参数以当天源气参数为准。对于液相方法,单击方法编辑区的导航栏中的液相,添加相应的液相方法。最后保存方法。



    1.4.5 编辑batch

    将方法提交给质谱之前,重要的一步是编辑batch。打开batch编辑区的方法有二,如果在已保存的batch之上进行编辑,单击导航栏的Acquire,在菜单栏单击打开键,选择需要编辑的batch,打开,进行编辑;如果需要新建一个batch,以日期或相关项目名为batch并随时保存,直接双击导航栏的Build Acquition Batch。

    打开batch编辑区后点击编辑区左上角sample栏,首先,输入一个set的名字,点击 add set,然后添加sample,在sample name处编辑名字,rack coke默认为by row,rack position默认为1,plate position如果要取Ekigent nanoLC Ultra自动进样器左边盘的时候选12,右边盘选48,via position左边盘为1,右边盘为2。Data file处输入文件的名字,inj.volume处设为默认值,但进样量控制不由此处决定。最重要一步是调进方法,可在下图椭圆形处输入,或者进行方法的编辑。



    编辑好方法之后,点击编辑区左上角submit处,选择要提交的样品,点击submit进行提交。点击菜单栏中图标,显示当前质谱运作状态,选择要跑的batch点击图标,进行run sample。



    1.4.6 查看文件

    一旦质谱开始采集数据,就可以查看文件。双击导航栏中的open data file,选择要打开的文件,打开。如下图。



    2. 维护保养

    2.1日常维护保养

    每天观察气路,Gas1/Gas2:100psi(0.7Mpa),Curtain/CAD:50-60psi(0.4Mpa),Exhaust gas:50-60psi(0.4Mpa)。

    2.2定期维护保养

    如果使用ESI源,每天对curtain plate(气帘板)和orifice(锥孔)进行清洗,每隔1个月,需要对空气过滤网经行清洗。

    每隔1个年,需要对真空泵进行泵油更换。

    每隔1年,需要对质谱仪进行仪器除尘。

    柱塞杆清洗液,建议每3个月换一次,装瓶的1/2左右,不要装太满,清洗液为10%的异丙醇水溶液。

    2.2.1清洗curtain plate和orifice

    清洗curtain plate和orifice步骤如下:

    1) 仪器保持在stanby状态

    2) 将源与质谱两个卡位90度旋转,将源卸下。

    3) 小心将curtain plate拉下,用无尘纸加甲醇水(1 :1)擦洗curtain plate、orifice,再用甲醇在擦洗一遍,氮气吹干。擦洗时不要堵塞orifice小孔。

    2.2.2更换空气滤网

    空气过滤网堵塞会导致仪器内部电路板散热不好,严重时仪器停止数据采集,所以要经常清理,每个月,取出除尘,如有破损,更换新的过滤网。空气过滤网在仪器底部,取下用水清洗,干燥后装回。仪器在运行的时候不要长时间没有空气过滤网,一般时间不要超过1个小时。

    2.2.3更换机械泵油

    每年更换一次机械泵油,更换机械泵油的步骤:

    1)关机,详情参考上述关机的步骤,关掉机械泵电源开关;

    2)提高机械泵,在排油孔下方放一器皿(约1升容量),打开排油孔,见图A



    图A 图B

    3)当无泵油流出时,拧上排油孔螺栓,加入100mL-200mL新油,重新打开排油孔螺栓,排出泵内残余的泵油。

    4)拧上排油孔螺栓并上紧。

    5)打开加油孔盖子,添加干净的真空泵油,油面位置约到“MAX”80%处,拧上加油孔盖子,见图B。

    6) 连接相关部件并开机械泵,20分钟以后再开主机。

    2.2.4 仪器除尘

    关机,打开前后盖,用氮气吹扫电路板,风扇(不要碰触电路电线)。此步骤可以在更换机械泵油的时候同步进行

    3 仪器连接图示

    3.1 液相部分为二元高压泵,下图左边为溶剂切换阀部分,右边为两个独立的二元高压泵,out1对应流路的流动相进入A泵,out2对应流路的流动相进入B泵,若使用二个不同的流动相,不能仅使用out1或out2,须两个同时使用,建议两个泵的流路均放上有机相、水相,防止只有水相的泵,由于水的粘性大,容易长菌,堵塞管路。



    3.2 下图为我们正常使用仪器质谱的连接状态,左边部分为质谱的6通切换阀,如下图标示。

    在质谱处与A模式下,1-6、2-3、4-5接口连通

    在质谱处与B模式下,6-5、3-4、2-1接口连通

    该图示列为,在B模式下,样品通过质谱进行检测,在A模式下,样品直接通过管路1进入废液。可以根据该连接模式建立清洗柱子方法,且不经过质谱。



    3.3 在调谐或者建立方法的过程中,直接将标样或调谐液经过该连接方式进样,进样蠕动泵自动进样,速度不能过快,液体进样速度过快,雾化不完全,导致液体进入质谱,损坏仪器,进样速度建议10ul/min。

    可以将接口直接接入离子源接口端,该操作容易损坏仪器,建议按照图示接法,该接口可防止高压、还有接地装置。



    4 注意事项

    3.1 换源前先把仪器deactivate(未激活)后关机,激光关闭,拿出curtain plate 之前要确保curtain plate温度低于60度以下,避免受到高温、高压和激光伤害;

    3.2仪器正常运行时,禁止接触离子源和打开离子源盖,避免受到高温、高压和激光伤害。

    防止有机试剂造成危害;
猜你喜欢最新推荐热门推荐更多推荐
举报帖子

执行举报

点赞用户
好友列表
加载中...
正在为您切换请稍后...