简易等离子CVD装置

823MNK




利用高周波等离子实现的简易等离子CVD成膜装置。




生长室
真空腔 分批式 φ159×95
高周波机构 500W输出 / 自动控制系统
样品尺寸 φ2inch以下
排气系统 机械泵 250l/min

 

气体导入系统

针阀流量控制
蝶形阀排气电导率控制
压力检测器:非稳定行波动磁控管/压力计



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