KMPR 1000系列光刻胶

参考价：面议

型号：	KMPR 1000 Series
产地：	美国
品牌：	MicroChem
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产品详情

KMPR为负性光刻胶，用作DRIE蚀刻掩膜实现高深宽比的图案，它还被广泛用作MEMS与生物器件的电镀模具。因为KMPR减少了Cross-link密度，在Hard baked之前，KMPR比SU-8更容易剥离。KMPR负性光刻胶可在任何(PGMEA),或(TMAH)的显影剂中得到显影。

KMPR 1000系列的特性

1）临时或永久的应用程序

2）膜厚：2-75 um

3）兼容标准水性显影剂

4）高宽比成像和垂直侧壁，深宽比：>5:1

5）单一旋途可达100微米

6）减少开裂

7）优异的金属粘附性

8）优异的电镀膜液稳定性

相关溶液：

显影液：SU-8 Developer

去胶液：Remover PG

增附剂：OmniCoat

一般储存温度：

-10°C

香港电子器材有限公司为您提供MicroChemKMPR 1000系列光刻胶KMPR 1000 Series，MicroChemKMPR 1000 Series产地为美国，属于其他，除了KMPR 1000系列光刻胶的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多其他,香港电子客服电话400-860-5168转2459，售前、售后均可联系。

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