RTP-1200小型快速退火炉(RTA)
RTP-1200小型快速退火炉(RTA)

RTP-1200小型快速退火炉(RTA)

参考价:面议
型号: RTP-1200
产地: 韩国
品牌: ECOPIA
评分:
载德半导体技术有限公司
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产品详情

RTP-1200小型真空快速退火炉(RTP/RTA)为韩国进口的快速退火炉。

该仪器:尺寸小巧,使用风冷、无须水冷,电流要求不高(3安培),性价比高,使用方便,非常适合科研院所的科研使用。

 

技术规格:

  - 加热方式:红外卤素钨灯,600W;
  - 卤素红外灯数量:4支;

  - 最快升温速率:100℃/秒;

  - 最快降温速率:50秒(1000℃ → 400℃);

  - 最高温度:1200℃;

  - 温度精度:+/-0.3℃

  - 最大样品尺寸:20 x 20mm;

  - 退火环境:真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢气等);

  - 真空泵及极限压力:机械泵,10-3Torr水平(选配);

  - 电压:220 V,单相;

  - 仪器尺寸:400*300*450mm (W*D*H);

  - 质量:净重30Kg;

仪器特点:

  - 可在真空/不同气氛/空气不同环境下,对样品进行快速热处理;

  - 温控精度高;

  - 适合高校或研究所科研使用;

  - 无须额外的冷却系统;

  - 紧凑的台式设计;

  - 仪器操作方便,样片装取容易;

  - 价格合理,高性价比;

应用领域:

  - 快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);

 - 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

  - 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

  - 硅化 (Silicidation);

  - 扩散 (Diffusion);

  - 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);

  - 离子注入后退火 (Implant Annealing);

  - 电极合金化 (Contact Alloying);

  - 晶化和致密化 (Crystallization and Densification);

  - 合金熔点分析;

  - 薄膜沉积;

    等等…

 

载德半导体技术有限公司为您提供ECOPIARTP-1200小型快速退火炉(RTA),ECOPIARTP-1200产地为韩国,属于其他,除了RTP-1200小型快速退火炉(RTA)的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多其他,载德半导体客服电话400-860-5168转3241,售前、售后均可联系。

典型用户
用户单位 采购时间
中科院北京纳米所 2014/02/28
齐齐哈尔大学 2013/11/01
湖南大学 2013/02/21
中科院苏州纳米所 2012/02/01
吉林大学 2011/03/31
南京大学物理系 2010/12/01

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