ECOPIA快速热化学气相沉积系统(RTCVD)_价格-载德半导体技术有限公司

产品详情

快速热化学气相沉积系统 (RTCVD)

生产商：韩国Ecopia

RTCVD快速热化学气相沉积设备广泛用于多晶硅、氧化硅、氮化硅等常见半导体薄膜的沉积和制备。

性能和特点：

- 温度范围：室温 ~ 1500°C;

- 升温速度：200°C/s;

- 气体混合能力(带有质量流量计);

- 真空度：~10^-6Torr;

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型号：	RTCVD
产地：	韩国
品牌：	ECOPIA
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