荷兰SCIL公司AutoSCIL纳米压印光刻系统
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荷兰SCIL公司AutoSCIL纳米压印光刻系统

参考价:面议
型号: AutoSCIL
产地: 荷兰
品牌: SCIL
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n 荷兰SCIL公司

 

  荷兰SCIL公司是全球知名的纳米压印设备供应商,是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一,并与SUSS,Fraunhofer,AMO,AMOLF合作,共同开发了专利的“SCIL基底保形压印”技术,真正意义上实现了纳米压印技术的工业wafer级量产,已经被国际上很多知名fab厂采用。

  “SCIL基底保形压印光刻是一种经济高效、稳健、高产量的工艺,可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL可实现在达 300 毫米的晶圆区域上提供经过验证的高质量压印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻对齐精度小于1 μm 的图案。

  荷兰SCIL公司同时开发了专利的无机玻璃纳米压印光刻胶,可直接作为功能层使用,可直接省去2个工艺步骤,大大降低了生产成本。

   SCIL 目前可提供2” 至 12”晶圆手动研发工具到全自动系统的全方位解决方案,并可以帮助客户优化设备、耗材和流程,以实现大批量生产。

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n SCIL 技术特色

  - 即使在非平坦和弯曲的表面上也可以保证保形接触印刷(专利的模板复制技术)。

  - 独特的 SCIL 压印工艺可确保<10 nm 分辨率、低图案变形和无颗粒损坏印模。

  - 套刻对齐精度:< 1 μm

  - -gel的优异蚀刻特性可得到极高的蚀刻率。

  - Sol-gel的的热稳定性、光学透明度和(UV)稳定性使其适合作为功能层。

  - 使用热Sol-gel大大增加了母版寿命。

  - 总体而言,SCIL可将最高的压印质量和产量与高吞吐量和低总体拥有成本相结合。

 

n AutoSCIL全自动纳米压印系统简介

 

AutoSCIL全自动纳米压印系统包括所有基本工艺步骤:晶片处理、预对准、旋涂、SCIL 压印、烘烤和冷却

 

n 技术参数

 

产能

30 - 60 wafers/小时(取决于wafer尺寸,材料,pattern尺寸等因素)

晶圆尺寸

2” up to 8” (or 200 mm)

Wafer thickness

0.3 - 2.5 mm

晶圆搬运

Cassette-to-cassette,robot

光刻胶类型

Thermal sol-gel

UV sol-gel

UV organic

光刻胶涂层

集成了旋涂仪

压印技术

低力软模基底保形纳米压印技术

后处理

烘烤与冷却

尺寸(WxLxH)

1.9 x 1.6 x 2.2 m

套刻精度

 < 1μm

 

n 应用

 

  纳米图案化是众多纳米光子应用的关键工艺步骤。下面提到的应用程序只是一个选择。其他应用包括:

  - 增强现实和虚拟现实 (AR/VR) 光学

  MicroLED

  MEMS和传感器

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