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德国Osiris CHEMIXX 30pm型标准湿法处理系统

参考价：面议

型号：	CHEMIXX 30pm
产地：	德国
品牌：	Osiris
评分：

核心参数

产地类别：进口
应用领域：半导体芯片、MEMS系统等
产能： /
光刻胶用量： /

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产品详情

n产品简介

CHEMIXX 30pm湿法台是一款半自动单面湿法系统，主要用于晶圆或者方片的清洗，刻蚀，显影等应用，其中清洗部分具有化学清洗，兆声清洗，PVA刷洗，高压DI水冲洗，背部清洗等多种功能。

n产品特色

÷ 圆形晶圆最大可达 ? 300mm

÷ 方形衬底最大可达 9 x 9 inch

÷ 最多两个电动输送臂，每个最多 6 个管路

÷ 液体加热模块高达 60°C

÷ 用于去离子水的背面冲洗

÷ 集成三种不同化学品液供应系统

÷ 工艺室外的手动去离子水枪

÷ 工艺室自动去离子水冲洗可选

÷ 带有流孔的工艺室档板

n技术数据

÷ 衬底尺寸: 最大可达 ? 300mm (?12 inch) 或 230 x 230 mm (9 x 9 inch)

÷ 电机转速: 最大 3.000 rpm, 步进1 rpm

÷ 步进时间: 1 至 999.9 秒，步长 0.1 s

÷ 系统架构: 由粉末涂层不锈钢制成

÷ 处理室材料: PP （可选 PVDF)

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