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仪器介绍 双靶磁控离子溅射仪J20
2024-35-06

视频详情:J20是一款低真空双靶离子溅射仪,基于磁控溅射原理,采用高性能旋片泵快速产生一个 小于3Pa的真空压强,搭配自主研发的旋转偏转样品台,在样品表面沉积一层更均匀稳定的导电膜层,广泛适用于追求更高分辨率或温度敏感SEM电镜样品、特别是3D粉末类样品的喷金、喷铂、喷镀铂金合金等用途。自动化程序控制,触摸屏操作,即插即用。

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