高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H

高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H

参考价:¥100万 - 150万
型号: 高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H
产地: 日本
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高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H

 

高密度等离子客户装置ULHITE NE-7800H是对应刻蚀FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高难度刻蚀材料(强电介质层、贵金属、磁性膜等)的Multi-Chamber型低压高密度等离子刻蚀设备。

 

 

产品特性 / Product characteristics

有磁场ICPISM)方式-可产生低圧?高密度plasma、为不挥发性材料加工的专用设备。

可提供对应从常温到高温(400oC)的层积膜整体刻蚀、硬掩膜去除的刻蚀解决方案。

通过从腔体到排气lineDRP为止的均匀加热来防止沉积物。

该设备采用可降低养护清洗并抑制partical产生的构造和材料及加热机构,是在不挥发性材料的刻蚀方面拥有丰富经验的量产装置。

实现了长期的再现性、安定性

 

产品应用 / Product application

   FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PcRAM.


北京亚科晨旭科技有限公司为您提供高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H,null高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H产地为日本,属于进口等离子体刻蚀设备,除了高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多等离子体刻蚀设备,ASTchian客服电话400-860-5168转4552,售前、售后均可联系。

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