1个中央传输室:蝶形结构;3个沉积室:方形结构; 1个进样室:方形结构
中央传输室:Φ1000×280mm ; 沉积室:260×260×280mm ;进样室:300×300×300mm
中央传输室:6.67E-4 Pa;沉积室:6.67E-6 Pa ;进样室:6.67 Pa
114X114X3mm, 加热温度350度,机械手传递样品
共有8路工作气体
设备用途:
团簇型等离子体化学气相沉积设备(PECVD),采用等离子体增强化学气相沉积技术,在光学玻璃、硅片、石英、不锈钢片等不同衬底材料上,沉积氮化硅、非晶硅、微晶硅、二氧化硅等薄膜,可以制备非晶硅、微晶硅薄膜太阳能电池器件。
深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积系统--Cluster PECVD,--Cluster PECVD产地为辽宁,属于外延系统,除了高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积系统--Cluster PECVD的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多外延系统,客服电话,售前、售后均可联系。