型号: | iTops PVD AlN |
产地: | 其他 |
品牌: | 北方华创 |
评分: |
![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
iTops PVD AlN 溅射系统
1、采用托盘形式,可兼容 2/4/6 英寸
wafer With tray,2 inch / 4 inch /6 inch wafer compatible
2、工艺温度在 0~700℃之间
Processing temperature can be set between 0 ℃ to 700 ℃
3、占地面积小,结构简单,操作灵活,维修方便
Better footprint, simple structure, flexible operation and easy maintain
4、设备稳定,运营成本低
Reliable performance, lower CoO/CoC
技术参数
1、晶圆尺寸 2/4/6 英寸兼容
2、适用材料 氮化铝
3、适用工艺 氮化铝缓冲层溅射
4、适用领域 化合物半导体
相关产品
关注
拨打电话
留言咨询