化学气相沉积 (PECVD) 设备

化学气相沉积 (PECVD) 设备

参考价:面议
型号: PD-2201LC
产地: 日本
品牌: SAMCO
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等离子体增强型CVD设备 PD-2201LC

节省空间的生产系统

概要

PD-2201LC 是一种盒式装载等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 设备,能够沉积硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)。
该系统在节省空间的前提下提供了PECVD的所有标准功能。可在直径220毫米的区域内沉积具有优异厚度均匀性和应力控制的薄膜,并具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面,用于参数控制和配方存储。该系统是大规模生产用薄膜沉积的理想选择,具有优异的重复性。

主要特点和优点

  • 最大加工范围:ø220 mm (ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1)

  • 优异的均匀性和应力控制

  • 卓越的工艺稳定性和可重复性

  • 坚固的系统,最低的运行/维护成本

  • 用户友好的触摸屏界面,用于参数控制和配方存储

  • PD-2201LC设计时尚、节省空间,只需最小的洁净室空间

  • 双频(13.56 MHz + 400 kHz)PECVD,用于卓越的过程控制

应用

  • SiH4-SiNx

  • SiH4-SiO2

  • 液体前驱体(SN-2)SiNx。

  • TEOS-SiO2


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供SAMCO化学气相沉积 (PECVD) 设备PD-2201LC,SAMCOPD-2201LC产地为日本,属于进口化学气相沉积设备,除了化学气相沉积 (PECVD) 设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多化学气相沉积设备,客服电话400-860-5168转5919,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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