化学气相沉积(PECVD)系统

化学气相沉积(PECVD)系统

参考价:面议
型号: PD-3800L
产地: 日本
品牌: SAMCO
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等离子体增强型CVD设备 PD-3800L

批量加工设备

概要

PD-3800L是一种能够沉积硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)的锁载等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统。
该系统由于采用了大型反应室,并通过载盘装载多片晶圆进行批量处理,因此产量较高。在直径360mm的区域内可以沉积出具有优异的厚度均匀性和应力控制的薄膜,具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面用于参数控制和配方存储。该系统是大规模生产用薄膜沉积的理想选择,具有优异的重复性。

主要特点和优点

  • 最大加工范围:ø360 mm (ø3" x 9, ø4" x 6, ø6" x 3)

  • 优异的均匀性和应力控制

  • 卓越的工艺稳定性和可重复性

  • 坚固的系统,最低的运行/维护成本

  • 用户友好的触摸屏界面,用于参数控制和配方存储。

应用

  • SiH4-SiNx

  • SiH4-SiO2

  • 液体前驱体(SN-2)SiNx。

  • TEOS-SiO2

  • 选项

  • 自动传送装置(从盒式装载到ø360毫米的托架上)


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供SAMCO化学气相沉积(PECVD)系统PD-3800L,SAMCOPD-3800L产地为日本,属于进口化学气相沉积设备,除了化学气相沉积(PECVD)系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多化学气相沉积设备,客服电话400-860-5168转5919,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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