| 型号： | EIS-200ERP |
| 产地： | 日本 |
| 品牌： | ELIONIX INC. |
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1 产品概述:
离子束刻蚀设备是一种高精度的材料加工设备，它利用经过电场加速的高能离子束对样品表面进行物理轰击，从而实现材料的精细刻蚀。这种设备广泛应用于物理学、工程与技术科学基础学科、测绘科学技术、航空、航天科学技术等多个领域，成为现代微纳米加工技术中的重要工具。
2 设备用途：
材料加工：离子束刻蚀设备可以对多种材料进行精细加工，包括硅、石英、半导体、金属、非金属硬质薄膜等。通过控制离子束的能量、束流密度和刻蚀时间等参数，可以精确控制刻蚀深度和形貌，实现微米甚至纳米量级的加工精度。
微结构制作：该设备具有制作微结构图形的能力，如光栅、微透镜阵列等。在光学、电子学等领域中，这些微结构对于提高器件性能具有关键作用。
样品表面处理：离子束刻蚀还可以用于清洗材料表面有机物、氧化物等污染物，提升材料表面的亲水性、粘接力和附着力。这对于提高样品的质量和分析精度具有重要意义。
3 设备特点
高精度：离子束刻蚀设备能够实现高精度的材料加工和微结构制作。通过精确控制离子束的参数，可以实现微米甚至纳米量级的加工精度。
多材料适应性：该设备可以处理多种材料，包括硅、石英、半导体、金属、非金属硬质薄膜等。这种广泛的材料适应性使得离子束刻蚀设备在多个领域中得到广泛应用。
高灵活性：离子束刻蚀设备通常配备有先进的控制系统和样品台，可以实现多种加工模式和工艺参数的灵活调整。这为用户提供了更多的选择和便利。
高稳定性：设备在长时间运行过程中能够保持较高的稳定性和可靠性。这有助于确保加工质量和生产效率的稳定。
4 技术参数和特点：
离子枪 | ECR型离子枪 |
电离气体 | Ar、Xe等、惰性离子种类的气体 N2、O2、C3F8等、活性离子种类的气体 |
加速电压 | 100 ~ 3000 V 连续可变 |
离子流密度 | Ar: 1.5 mA/cm2 以上 (2kV加速时） O2: 2.0 mA/cm2 以上 (2kV加速时） |
离子束有效直径 | Φ 20 mm (FWHM 35 mm) |
离子流稳定性 | ±5 ％ / 2 H |
大试样尺寸 | Φ 4英寸 |
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