8英寸离子束沉积(IBD)设备

8英寸离子束沉积(IBD)设备

参考价:面议
型号: Ganister™ A 系列
产地: 江苏
品牌: 鲁汶
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产品详情

1. 产品概述

Ganister™ A离子束沉积设备,是针对低温、高致密、高均匀性薄膜沉积工艺所开发的专用产品,在硬盘磁头、硬磁偏置层、布拉格反射镜等器件的制备中有着重要的应用。该设备采用溅射成膜,靶材选择范围广。而其采用的四槽旋转靶材基座,更可处理多达四种靶材。选配的辅助离子源,可以实现原位预清洗、优化膜层致密性等功能。此外,Ganister™ A的辅助离子源也可进行离子束刻蚀,一个腔室内兼备两种工艺,显著提高了该设备的功能。

2. 系统特性

在低温、超低压工艺模式下,形成高致密优质膜层

双离子源结构(溅射+辅助离子源),辅助源用于清洗与辅助溅射

可高精度控制沉积过程,并能保障批次间的膜层重复性

实时光控设备,用来监控、分析、调整膜层光谱

选配:可在一个腔室内同时实现IBD和离子束刻蚀(IBE)功能

适用于8英寸晶圆


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供鲁汶8英寸离子束沉积(IBD)设备Ganister™ A 系列,鲁汶Ganister™ A 系列产地为江苏,属于等离子体刻蚀设备,除了8英寸离子束沉积(IBD)设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多等离子体刻蚀设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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