12英寸金属刻蚀设备

12英寸金属刻蚀设备

参考价:面议
型号: Herent® Chimera® M
产地: 江苏
品牌: 鲁汶
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核心参数
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产品详情

1. 系统特性

Herent® Chimera® M 金属刻蚀设备是面向12英寸集成电路制造的量产型设备

设备由电感耦合等离子体刻蚀腔(ICP etch chamber)、去胶腔(strip chamber)、传输模块(transfer module)构成

适用于0.18微米及其他技术代逻辑应用中的高密度铝导线工艺,以及铝垫刻蚀

2. 详细介绍

Herent® Chimera® M 金属刻蚀设备,为针对12英寸IC产业0.18微米以下后道高密度铝导线互连工艺所开发的用产品, 同时也可应用于铝垫(Al pad)刻蚀。该设备承袭了 Chimera® A 的先进设计理念,具有出色的均匀性调控手段, 可以为客户提供高性价比的解决方案


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供鲁汶12英寸金属刻蚀设备Herent® Chimera® M,鲁汶Herent® Chimera® M产地为江苏,属于等离子体刻蚀设备,除了12英寸金属刻蚀设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多等离子体刻蚀设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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