8英寸硅刻蚀设备

8英寸硅刻蚀设备

参考价:面议
型号: Tebaank® Pishow® P
产地: 江苏
品牌: 鲁汶
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核心参数
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产品详情

1. 产品概述:

Tebaank® Pishow® P 硅刻蚀设备是面向8英寸集成电路制造的量产型设备设备由电感耦合等离子体刻蚀腔(ICP etch chamber)以及传输模块(transfer module)构成

适用于0.11微米及其它技术代的多晶硅栅(poly gate)、侧墙(spacer)、浅沟槽隔离(STI)工艺

2. 工艺数据

3 μm Trench

0.4 μm Trench

0.25 μm Trench

2 μm Poly

0.18 μm Poly

3. 详细介绍

Tebaank®  Pishow® P 硅刻蚀设备,为8英寸IC产线上栅工艺的多腔式量产型设备,拥有自主开发的优化设计, 保证了优异的刻蚀均匀性(片内<5%,片间<5%)和颗粒控制。提供AA、gate、STI、spacer、W recess等各项工艺的刻蚀解决方案。该设备高性价比的解决方案和优秀的空间利用率,可为客户产能升提供帮助。 


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供鲁汶8英寸硅刻蚀设备Tebaank® Pishow® P,鲁汶Tebaank® Pishow® P产地为江苏,属于等离子体刻蚀设备,除了8英寸硅刻蚀设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多等离子体刻蚀设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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