普发真空APA污染管理解决系统
牛津仪器PlasmaPro 100 Polaris单晶圆刻蚀系统
牛津仪器Ionfab300刻蚀和沉积设备
该射频电源采用3U半机箱设计,整机功率密度高。支持连续波、脉冲、多级脉冲的工作模式。可自定义配置脉冲信号,响应速度快,信号质量高。支持高速、高精度的调频功能。
应用特征
该电源主要应用对象包括:刻蚀、ICP、 PECVD。
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