远程等离子体源(Remote Plasma Source,RPS)

远程等离子体源(Remote Plasma Source,RPS)

参考价:面议
型号: RPS
产地: 天津
品牌: 吉兆源
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产品详情

是一种用于产生等离子体的装置,通常被用于在真空环境中进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺,以及半导体刻蚀和薄膜设备的预处理反应和清洗等。与传统等离子体源不同的是,RPS通常不直接接触要处理的表面,而是在一定距离之外产生等离子体,并将等离子体输送到目标表面,因此被称为“远程等离子体源”。


应用特征

采用新的固态微波源技术【非磁控管微波源】。具有很高的频率、功率稳定性,使用寿命长。

自主开发的微波匹配器,能实现在不同气体条件下,快速进行微波源与等离子体的阻抗匹配。

等离子体发生器材质可选,适用于多种气体。

体积小、集成度高、便于更换。低颗粒污染;

独特的等离子反应腔设计,适用于多种气体的电离与阻抗匹配。

系统运行时,气体压力适应范围宽。气体电离率高、电离速度快。


售后服务
  • 产品货期: 7天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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