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原子层沉积技术ALD-P1000

报价 ¥100万 - 200万

品牌

Picosun

型号

ALD-P1000

产地

欧洲芬兰

应用领域

暂无
该产品已下架

进口

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       原子层沉积技术ALD-P1000专门对于3D结构物体进行批量涂层加工。例如:机械零件、玻璃或金属片、硬币、珠宝以及医疗植入物等。PICOSUN™ P-1000系统专门对于3D结构物体进行批量涂层加工,例如:机械零件、玻璃或金属片、硬币、珠宝以及医疗植入器械。主要的应用包括制备各种各样的钝化层和阻挡层,显著提高器件的性能和寿命。巧妙、创新的设计使得PICOSUN™ P-1000 ALD系统在具有制备高均一性的高质量ALD薄膜的同时能够有很高的产量,并且是市场上保养、维护时间最低,购置成本最小的ALD系统。这些都已经在实际生产中得到证实。可靠、快速且易于维护PICOSUN™ P-1000ALD系统代表了最尖端的工业化ALD工艺水平!

       Picosun的ALD技术应用在钟表部件、珠宝、硬币上进行防着色,防腐蚀的装饰涂层。在生物植入医疗部件上的生物兼容、生物活性涂层。致密、惰性、密封、弹性、透明的ALD薄膜技术挑战传统的膜生长方式。在PCB防腐蚀保护、防摩损等领域,ALD层大大提升了部件的质量、可靠性及寿命。

ALD工业领域及应用
产品ALD应用

医疗植入(牙科,连接技术)

手术固定器

植物活性层, 用来提高骨融

合,生物兼容的包覆层

植入医疗器件

(心脏起搏器,耳蜗植入)

生物兼容包覆层
收藏性硬币防着色涂层
钟表部件防着色层或装饰层
珠宝防着色层或装饰层
PCB防锡晶须及腐蚀

原子层沉积技术ALD-P1000技术参数

衬底尺寸和类型

大小不等的3D结构物件(例如:机械零件、玻璃或金属片、硬币、珠宝以及医疗植入物等)

工艺温度50 - 400 °C
标准选件Al2O3, ZnO, TiO2
基片装载

通过装载工具进行手动装                                                                     

前驱体

液态、固态、气态、臭氧源

源瓶余量传感器,提供清洗和装源服务

6根独立源管线,最多加载10个前驱体源

典型用户
用户单位 采购时间
清华大学 2016-01-01
上海交通 2016-01-01
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