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产品描述 全自动程序控制，彩色触摸屏界面，操作简洁，可镀金（Au)、铂(Pt)等不氧化贵金属，也可镀铱(Ir)、铬(Cr)、铝(Al等多种精细颗粒的易氧化膜材。
应用范围 特别适合场发射电镜、透射电镜制样及制作无定形碳覆形膜/TEM栅网支持膜，也可为薄膜应用等材料领域提供理想的镀膜平台。
产品型号 Q150T S（高分辨率磁控离子溅射镀膜仪，可选辉光放电附件）、Q150T E（高真空热蒸发镀膜仪，用于蒸碳和可选蒸镀金属）和Q150T ES（集成了离子溅射和蒸镀两种沉积功能的镀膜仪）。 |  |
名称 | 规格 |
工作腔室 | 150mm内径 x 127mm高 |
用户界面 | 触摸屏全图像用户界面 |
样品台 | 标配旋转台 |
真空系统 | 涡轮分子泵：带有空气冷却的涡轮分子泵；旋转机械泵：双级旋转机械泵 |
溅射电流 | 0-150mA；可预设膜厚（需FTM选项）或使用内置定时器 |
溅射时间 | 最长60分钟 |
碳蒸发 | 稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。 |
尺寸和重量 | 仪器机箱：585mm宽x 470mm长 x 410mm高 (总高: 650mm) 重量：33.4Kg |
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