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脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统(NEW)

报价 ¥200万 - 400万

品牌

BlueWave

型号

产地

美洲美国

应用领域

暂无

进口

脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统


美国BlueWave公司是半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统,包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件,例如基片加热装置、原位监测工具。此外,BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层,例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。


1、脉冲激光沉积系统



产品特点:


◆ 电抛光多空不锈钢超高真空腔体

◆ 可集成热蒸发源或溅射源

◆ 可旋转的耐氧化基片加热台

◆ 流量计或针阀控制气体流量

◆ 标准真空计

◆ 干泵与涡轮真空泵

◆ 可选配不锈钢快速进样室

◆  可选配基片-靶材距离自动控制系统

◆  可制备:金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格等。

 

2、物理气相沉积系统(Physical Vapor Deposition Plus)


产品特点
◆  超高真空不锈钢腔体

◆  电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成

◆  立衬底加热,可旋转

◆  多量程气体流量控制器

◆  标准气压计

◆  机械、分子、冷凝真空泵
可选不锈钢快速进样室

◆  衬底和源距离可控

◆  可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

  

3、热化学气相沉积系统(TCVD)



产品特点


◆  高温石英管反应器设计

◆  温度范围:室温到1100℃

◆  多路气体控制

◆  标准气压计

◆  易于操作



◆  可配机械泵实现低压TCVD
◆  可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

◆  液体前驱体喷头

◆  2英寸超大温度均匀区



4、热丝化学气相沉积系统(HFCVD)


产品特点:


◆  水冷不锈钢超高真空腔

◆   热丝易安装、更换 

◆  4个不同量程气体控制器

◆  标准气压计

◆  衬底与热丝距离可调节

◆  2英寸衬底加热、可旋转 

◆  制备金刚石和石墨烯 

 


售后服务

1年

初次安装培训

QD中国工程师会依据使用情况定期回访用户、给予维护建议,保障设备良好运转。

免费维修或更换零件;本地储备货值超过50万美元的备件,迅速响应故障诊断和维修。

QD中国承担中国区本地售后服务工作,专业、迅速解决用户在仪器使用过程中的问题。

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