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BENEQ原子层沉积系统ALD TFS 500
BENEQ ALD系统是专为生产MEMS设备（例如打印头，传感器和麦克风）以及各种3D物品（例如机械零件，玻璃或金属薄板，硬币，手表零件和珠宝，镜片，光学器件以及医疗设备和植入物。
BENEQ ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的专利热墙设计与完全分开的入口集成在yi起，我们可以生产出具有优异产量，低颗粒水平以及卓越的电学和光学性能的zui高质量的ALD膜。灵活的设计以及易于快速的维护，确保了系统停机时间zui少，市场拥有成本zui低。我们专有的Picoflow™扩散增强剂技术可通过经过生产验证的工艺，在超高深宽比的基材上实现高度保形的涂层。
BENEQ ALD系统是专门为MEMS和3维零件生产中的批处理而设计的，例如机械零件，硬币，钟表零件和珠宝，镜片，光学元件和医疗设备，外科植入物和植入物的涂层设备（PicoMEDICAL™解决方案）。该系统速度快，可靠性高且易于维护。
售后服务
200天
1年
安装调试现场免费培训
BENEQ 原子层沉积系统ALD P400A信息由南通宏腾微电子技术有限公司为您提供，如您想了解更多关于BENEQ 原子层沉积系统ALD P400A报价、型号、参数等信息，宏腾微电子设备客服电话：400-860-5168转6134，欢迎来电或留言咨询。
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