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1.产品概述：
Beneq C2R 将等离子体增强原子层沉积 （PEALD） 工艺提升到一个全新的水平 – PEALD 可用于大批量生产。由于采用等离子体增强旋转原子层沉积工艺，Beneq C2R 是厚原子层沉积膜的理想选择，甚至可达几微米。
2.产品配置:
Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信赖的 MX400 传输模块的自动化选项。
自动化服务包括：
Brooks MX400 基于集群的模块
双臂扫地机器人
样品对准器
可选预热和冷却
3.产品优势：
超高沉积速率，高达每小时几微米
批量 PEALD 工艺，适用于多达 7 个 200 mm 晶圆
适用于厚度达 30 mm 的镜头和其他 3D 基板
膜厚均匀性高，适用于要求苛刻的光学镀膜应用
可配备负载锁或晶圆自动化
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
空间原子层沉积ALD信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于空间原子层沉积ALD报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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