Kurt J. Lesker Company (KJLC) ALD150LE™是我们但极其灵活的原子层沉积 (ALD) 系统,专为入门级到中级用户而设计。该ALD150LE™配置为纯热原子层沉积,工艺室设计促进了均匀的母离子分散和输送。加热和温度控制进一步增强了系统性能。总体而言,该ALD150LE™在紧凑的设计中提供了的灵活性和性能,而不会牺牲可维护性。
该ALD150LE™配置为纯热原子层沉积,我们的垂直流设计可实现分离、均匀的前驱体输送,同时降低背景杂质水平,从而提高薄膜质量。为避免不必要的材料在输送通道内积聚和颗粒形成,有两个独立的腔室入口可用于前驱体分离。例如,可以使用单独的入口来分离金属有机前体和共反应物,以防止在输送管线和阀门中沉积。
两个独立的进样口,用于前驱体输送,可防止输送通道中不必要的积聚
开放式装载室经过精心设计,可最大限度地减少由于密封脱气和渗透引起的背景杂质
独立的基板加热器平台和外腔壳体,可实现出色的温度控制和均匀性
304L不锈钢结构
可访问、低维护的设计
ALD150LE™开路负载设计允许在样品引入过程中将基物(直径最大为 150 mm)直接放置在基板加热器台上。在随后的原子层沉积(ALD)处理过程中,集中式母离子输送和泵送建立了一个屏障,将下游腔室密封的杂质挡在反应区之外。弹性体腔密封件在下游的战略定位可使杂质(由于密封件释气和渗透)远离基材表面,从而提高 ALD 薄膜质量。特别是,这是在开放式负载室设计中获得高质量氮化物膜的一个重要特征。
60天
1年
安装调试现场免费培训
相关产品