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SPELEEM是配备成像能量分析仪的LEEM III，已成为许多同步辐射设施和研究实验室的标准仪器。
LEEM与成像能量分析仪的结合是获得局部化学和结构信息实时表征的关键。此外，使用短光脉冲可以达到飞秒级的时间分辨率。
该仪器非常适合晶体表面的直接实时成像，用于生长，分解，熔化，相变过程，表面扩散和许多其他科学表面过程的动态研究。该系统使用简单，具有先进的计算机控制，易于对齐，使用户能够充分利用他们的研究时间。
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亮点:
最高分辨率(< 8nm)，最佳分辨率:4.6 nm
Leem, leed, mem, uv - peek, teem
快速样品交换
特高压原位晶体生长观察
宽样品温度范围(~ 100k至1800k)
先进的计算机控制
售后服务
200天
1年
安装调试现场免费培训
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