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仪器简介：
技术参数：
可多选：UV, 近红外, 映射(2D/3D), 定制阶段, 微黑子 (模式识别), 自动聚焦, 变角, 反射计, 隔离器(抗震工作台), 视觉形象(CCD摄像头)
技术参数：
-尺寸常数: 厚度, n(λ) 和 k(λ)
-厚度范围 1 Å ~ 10 µm (根据膜片种类而定)
-层数 10层以上
-波长 380 ~ 1000 nm (紫外选择 : 220nm ~ )
-精度 1 Å
-重复性 ± 0.1 Å (1)
Opiton:
-最小光斑可做到20um
-测试速度：1.5sec/全波段
应用：
半导体 硅,锗,二氧化硅, 氮化硅, 氧化层氮化层氧化层组件, 氧化锌, 镨, 钛酸镧铋 ,多晶硅, 氮化镓,砷化镓
显示(包括有机发光显示器) 氧化镁,铟锡氧化物,镨,三(8羟基喹啉)铝,酞菁铜,正溴丙烷,聚乙烯咔唑, 血小板活化因子,聚乙烯基二氧噻吩聚苯乙烯磺酸盐水性分散体
电介质 SiO2, TiO2, Ta2O5, ITO, AlN, ZrO2, Si3N4, Ga2O3, 湿氧化物
聚合物 染料, NPP, MNA, PVA, PET, TAC, PR
化学 有机膜(OLED) 和 LB薄膜
其他 极化状态测量,迟延角,光学活性, 双折射,二向色性, MOKE光磁效应, 霍尔效应, 法拉第旋转
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