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产品简介：
基于视窗结构的软件，很容易操作
先进的深紫外光学及坚固耐用的抗震设计，以确保系统能发挥出好的性能及长的正常运行时间
基于阵列设计的探测器系统，以确保快速测量
低价格，便携式及灵巧的操作台面设计
在很小的尺寸范围内，多可测量多达5层的薄膜厚度及折射率
在毫秒的时间内，可以获得反射率、传输率和吸收光谱等一些参数
能够用于实时或在线的监控光谱、厚度及折射率
系统配备大量的光学常数数据及数据库
对于每个被测薄膜样品，用户可以利用先进的软件功能选择使用NK数据库、也可以进行色散或者复合模型（EMA）测量分析
系统集合了可视化、光谱测量、仿真、薄膜厚度测量等功能于一体
能够应用于不同类型、不同厚度(zui厚可测200mm)的基片测量
使用深紫外光测量的薄膜厚度zui低可至20 ?
2D和3D的图形输出和友好的用户数据管理界面
先进的成像软件可用于诸如角度、距离、面积、粒子计数等尺寸测量
各种不同的选配件可满足客户各种特殊的应用
系统配置：
型号：MSP100RTM
探测器：2048像素的CCD阵列
光源：高功率的深紫外－可见光光源
光传送方式：光纤
自动的台架平台：特殊处理的铝合金操作平台，能够在5”×3”的距离上移动，并且有着1μm的分辨率，程序控制
物镜有着长焦点距离:4×，10×，15×(DUV)，50×
通讯接口：USB的通讯接口与计算机相连
测量类型：反射/透射光谱、薄膜厚度/反射光谱和特性参数
计算机硬件：英特儿酷睿2双核处理器，200G硬盘、DVD刻录机，19”LCD显示器
电源：110–240V AC/50-60Hz，3A
尺寸：16’x16’x18’ (操作桌面设置)
重量：120磅总重
保修：一年的整机及零备件保修
基本参数：
波长范围：250nm到1000 nm
波长分辨率: 1nm
光斑尺寸：100µm (4x), 40µm (10x), 30µm (15x), 8µm (50x)
基片尺寸：zui多可至20mm厚
测量厚度范围: 20Å 到25 µm
测量时间：zui快2毫秒
精度*：优于0.5％（通过使用相同的光学常数，让椭偏仪的结果与热氧化物样品相比较）
重复性误差*：小于2 ?
应用领域：
半导体制造（PR，Oxide, Nitride..)
液晶显示（ITO，PR，Cell gap... ..）
医学，生物薄膜及材料领域等
油墨，矿物学，颜料，调色剂等
医药及医药中间设备等
光学涂层，TiO2, SiO2, Ta2O5... ..
半导体化合物
在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膜
非晶体，纳米材料和结晶硅
产品可选项：
波长可扩展到远深紫外光或者近红外光范围
高功率的深紫外光?用于小斑点测量
可根据客户的特殊需求来定制
在动态实验研究时，可根据需要对平台进行加热或致冷
可选择的平台尺寸zui多可测量300??mm大小尺寸的样品
更高的波长范围的分辨率可低至0.1nm
各种滤光片可供各种特殊的需求
可添加应用于荧光测量的附件
可添加用于拉曼应用的附件
可添加用于偏光应用的附件
1年
否
有
具体产品服务根据合同内容。
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