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日立高新热场式场发射扫描电镜SU5000--搭载全新用户界面，向所有用户提供高画质图像-- 日立高新技术公司（以下简称：日立高新）8月4日开始发售的肖特基式场发射扫描电子显微镜"SU5000"，搭载了全新的用户界面和"EM Wizard"，无论用户的操作技巧是否娴熟都可以拍出好的照片。 扫描电子显微镜在纳米技术领域、材料领域、医学生物等领域均被广泛使用。但随着近年来仪器性能的大幅提升，以及用户群体的不断扩大，使得用户对不需要任何经验和技术就能得到好照片的需求迅速扩增。而且，由于观察对象的样品的不断多样化，对样品的大小和性质的无制约观察变得尤为重要。 这次新开发的"SU5000"对用户没有任何操作技巧上的要求，通过”EM Wizard“只要选择好观察目的就可以得到好照片。"EM Wizard"以人为本的设计理念使电镜的操作性大幅上升，对于用户来说，再也不用去讨论该用什么条件进行观察，只要按照观察目的选择”表面细节观察“或是”成分分布“等就可以自动将适合的观察条件设置好。除此之外，使用经验丰富的操作人员也可以像往常一样自由的选择观察条件，按照自己的操作习惯进行设置。”EM Wizard“对于初学者或者使用经验尚浅的客户来说，它独有的操作简易性和各种学习工具可以帮助您迅速成长起来；对使用经验丰富的客户来说，开放了丰富的可设置选项，会令您操作起来更加得心应手。这正是"EM Wizard"的价值所在。 另外"SU5000"的寻找视野功能"3D MultiFinder"更是独一无二的。不但可大幅提高做样速度，更使视野再现性得到大大提高。并且，为了能适应各种分析的需求，最大束流可达到200nA。再加上全新设计的背散射电子探头和低真空二次电子探头等，都使该款电镜无论在是观察样品还是分析都具备了超强的功能与强大的扩展性。 日立高新在8月3日至8月7日在美国康涅狄格州举办的"Microscopy & Microanalysis"，9月3日至9月5日在日本千叶县幕张国际展览中心举办的"JASIS 2014"，9月7日至9月12日在捷克举行的"18th International Microscopy Congress"上都做了实机展出。*：肖特基式场发射电子显微镜：高亮度、大束流、超强稳定性汇聚一身肖特基式场发射电子显微镜。分辨率高和可做各种定量定性分析。 肖特基式场发射电子显微镜"SU5000" "EM Wizard"画面样式【主要参数】 电子枪ZrO/W 肖特基式场发射电子枪加速电压0.5~30kV着陆电压0.1~2kV分辨率2.0nm@1kV（*1）、1.2nm@30kV、3.0nm@15kV 低真空模式（*2）放大倍率底片倍率：10~600000倍、显示倍率：18~1000000倍5轴马达台X：0~100mm、Y：0~50mm、Z：3~65mm、T：-20~90°、R：360° *1：减速模式是选配项 *2：低真空模式是选配项 2014年，日立高新技术公司（以下简称：日立高新） 新型肖特基场发射扫描电镜*"SU5000"作为工业用设备荣获由公益财团法人日本设计振兴会颁发的GOOD DESIGN AWARD 2014”(2014年度最佳设计奖)。

日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径：60 mm日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度：20 mm 特点：采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件可处理较厚或较大的样品(选配件)记忆功能可存储常用加工条件规格：

日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。0.4nm / 30kV（SE）0.7nm / 1kV（SE）0.34nm / 30kV（STEM）用改良的高真空性能和无与伦比的电子束稳定性来实现高效率截面观察。采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。